[发明专利]通过沉积物与光阻产生交联反应以减少光阻粗糙度的方法有效
| 申请号： | 01129600.3 | 申请日： | 2001-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN1393739A | 公开（公告）日： | 2003-01-29 |
| 发明（设计）人： | 林顺利;谢季芳 | 申请（专利权）人： | 旺宏电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳专利商标事务所 | 代理人： | 王学强 |
| 地址： | 台湾省新竹*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种通过沉积物与光阻产生交联反应以减少光阻粗糙度的方法，此方法包括对具有光阻图案的一个基底依序进行一个曝光步骤与一个曝光后烘烤步骤，使光阻图案表面活性化。接着，在光阻图案的表面覆盖一层材料层，此材料层会与光阻图案表面产生交联反应形成一层修补层，而填补光阻图案的凹凸不平区域。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 沉积物 产生 交联 反应 减少 粗糙 方法 | ||
【主权项】：
1.一种通过沉积物与光阻产生交联反应以减少光阻粗糙度的方法，该方法包括：提供一个基底；在该基底上形成一个光阻图案，其特征在于：该光阻图案的表面具有光酸；在该光阻图案表面覆盖一层材料层，该材料层与该光阻图案表面的光酸产生交联反应形成一层修补层，而填补该光阻图案的凹凸不平表面。
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