[发明专利]光敏电阻涂层沉淀工艺及设备

摘要

本发明为化工喷涂技术领域提供一种光敏电阻涂层沉淀工艺,涂层生产工艺是利用沉淀法,将基板放在网格板上,沉淀好以后,将基板连同网板一起拿出,在沉淀溶器的底部开一小孔,基板沉淀上硫化镉后,打开容器底部的小孔,缓慢的将水引出,本发明还提供了一种适用于该工艺的沉淀装置,与现有喷涂法工艺相比,具有无污染、降低成本、节省原材料、工艺简单、维修设备方便等优点。

主权项

1、一种光敏电阻涂层沉淀工艺，其特征在于采用以下工艺过程：(1)、将配制好的药液倒入浆料烧杯，然后将烧杯放在磁力搅拌器上；(2)、依次打开沉淀台上的总电源开关和磁力搅拌器电源开关以及搅拌器旋钮开关。将旋钮调至中速，开始搅拌药液；(3)、在沉淀槽里注入适量的沉淀液，水深4.0CM--6.5CM；(4)、把基板整列在网板上，然后将网板均匀放置在沉淀槽里，并检查平整度；(5)、开启步进电动机驱动器，带动喷淋泵及喷淋管往复运动。将药液均匀地喷洒在沉淀槽内；(6)、用清洗烧杯中的水冲洗水泵和喷淋管；(7)、复位。按相反顺序依次关掉各电源开关；(8)、盖上沉淀槽盖子，让药液自然沉淀；(9)、6小时后，打开放水阀门，把沉淀液缓速排入蓄水箱中；(10)、沉淀液排放完后，让基板上沉积的一层硫化镉膜层自然凉干和固定后，轻轻搬动网板，清除吸附网板背面的液体，然后放入烘箱烘干；