[发明专利]测磁场的方法、产生梯度线圈方法、梯度线圈和磁共振成像设备无效
| 申请号： | 01119654.8 | 申请日： | 2001-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN1336558A | 公开（公告）日： | 2002-02-20 |
| 发明（设计）人： | 后藤隆男 | 申请（专利权）人： | GE医疗系统环球技术有限公司 |
| 主分类号： | G01R33/20 | 分类号： | G01R33/20;G01R33/32 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 陈霁,张志醒 |
| 地址： | 美国威*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 为了实现在停止施加梯度磁场后测量剩磁场的方法,通过使由测量显示的、剩磁场的特性反映在其内的梯度磁场的制造方法的目的,在测量空间的虚球表面的测点上放置一个磁共振样品;将一个梯度磁场施加到测量空间;在停止施加梯度磁场后进行RF激发,以测量由样品生成的FID信号;在FID信号的相位微分的差的基础上计算磁场强度;并将磁场强度拟合为球面函数。 | ||
| 搜索关键词： | 磁场 方法 产生 梯度 线圈 磁共振 成像 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用于磁场测量的方法包括以下步骤：在测量空间的虚球表面的测点上安放一个磁共振样品；将一个梯度磁场施加到所述测量空间；在停止所述梯度磁场的施加后执行RF激发，以计算由所述样品生成的FID信号；在所述FID信号的相位微分基础上计算所述测点处的磁场强度；和将所述磁场强度拟合成表示所述测量空间的磁场强度分布的球面函数。
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