[发明专利]二吡咯亚甲基－金属螯合物和用它做的光学记录介质无效
| 申请号： | 01116852.8 | 申请日： | 2001-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN1317789A | 公开（公告）日： | 2001-10-17 |
| 发明（设计）人： | 西本泰三;塚原宇;井上忍;小木曾章;三泽伝美;小池正士 | 申请（专利权）人： | 三井化学株式会社;山本化成株式会社 |
| 主分类号： | G11B7/24 | 分类号： | G11B7/24;C07D207/333;C07D207/34 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王其灏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光学记录介质，该记录介质包括在基质上至少一个记录层和一个反射层，其中该记录层含有至少一种通式(1)所代表的二吡咯亚甲基一金属螯合物其中R1－R6和R7如说明书中所定义；A代表碳原子数高达20的、取代的或未取代的芳香不或杂环；L1代表取代的或未取代的二价残基，它与跟它相连的碳原子一起形成环，并且该环可以含有或不含有杂原子；和M1代表过渡金属元素。 | ||
| 搜索关键词： | 吡咯 甲基 金属 螯合物 光学 记录 介质 | ||
【主权项】：
1、一种光学记录介质，该记录介质包括在基质上至少一个记录层和一个反射层，其中该记录层含有至少一种通式(1)所代表的二吡咯亚甲基-金属螯合物：其中R1-R6独立地代表氢、卤素、硝基、氰基、羟基、氨基、羧基、磺基、碳原子数高达20的取代的或未取代的烷基、烷氧基、烷硫基、芳氧基、芳硫基、链烯基、酰基、烷氧基羰基、氨基甲酰基、酰氨基、芳烷基、芳基或杂芳基；R7代表卤素、芳基、杂芳基、烷氧基、烷硫基、芳氧基、或芳硫基；A代表碳原子数高达20的、取代的或未取代的芳香环或杂环；L1代表取代的或未取代的二价残基，它与跟它相连的碳原子一起形成环，并且该环可以含有或不含有杂原子；和M1代表过渡金属元素。
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