[发明专利]具有平面性调整机构的探针接触系统无效
| 申请号： | 01115732.1 | 申请日： | 2001-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN1336549A | 公开（公告）日： | 2002-02-20 |
| 发明（设计）人： | 西奥多·A·库利;罗伯特·爱德华·阿尔达斯 | 申请（专利权）人： | 株式会社鼎新 |
| 主分类号： | G01R1/073 | 分类号： | G01R1/073;G01R31/26 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 蹇炜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种探针接触系统的平面性调整机构,包括接触基片,其表面上有大量的接触器;探针板,在接触器和测试头之间建立电信连接;导电弹性体,位于接触基片和探针板之间;连接件,在三个位置上连接接触基体和探针板,并可通过调节连接件来改变接触基片与探针板的间隙;间隙传感器,用于测量接触基片与半导体晶片的间隙;以及旋转调节机构,通过调节连接件,使接触基体和每一个位置的半导体晶片之间的间隙相等。这种机构简单并且低廉。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 平面性 调整 机构 探针 接触 系统 | ||
【主权项】：
1.一种探针接触系统的平面性调整机构，用于与接触目标建立电连接，包括：接触基片，其表面上装有大量的接触器；探针板，用于在接触器和半导体测试系统的测试头之间建立电连接；装在接触基片和探针板之间的导电弹性体；连接件，用于在三个位置上连接接触基片和接触基片上的探针板，连接件是可调的，以便调节接触基片和探针板之间的间隙；间隙传感器，用于测量接触基片和半导体晶片或参考板(目标基片)之间的间隙，半导体晶片或参考板(目标基片)位于接触基片的三个位置的每一个位置附近；以及旋转调整机构，用来调整连接件，以致于接触基片和三个位置中每一个位置的接触目标之间的间隙相等。
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