[发明专利]聚合物配混料及其制备方法,光敏组合物及制备图案的方法无效
| 申请号： | 01110827.4 | 申请日： | 2001-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN1308094A | 公开（公告）日： | 2001-08-15 |
| 发明（设计）人： | 宇都宫伸;山田圣悟 | 申请（专利权）人： | 东洋合成工业株式会社 |
| 主分类号： | C08J3/20 | 分类号： | C08J3/20;G03F7/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 任宗华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种可交联的聚合物配混料,该聚合物配混料可用含水的显影剂显影,并展示出极好的制作图案的性能;一种含有该聚合物配混料的光敏组合物;和一种使用该组合物制作图案的方法。该聚合物配混料含有由式(Ⅰ)－(Ⅲ)表示的单体单元;其中R1－R4分别是氢和/或甲基;P表示1－10之间所含的一个整数;X表示氢、碱金属或由式(1)表示的铵其中R5－R8分别表示氢、C1－C3的烷基或C1－C3的烷醇基;并且多个Xs可以彼此相同或不同,这些单体单元的组成比例在下述范围之内2%摩尔≤73%摩尔;8%摩尔≤m≤83%摩尔;和15%摩尔≤n≤80%摩尔。 | ||
| 搜索关键词： | 聚合物 料及 制备 方法 光敏 组合 图案 | ||
【主权项】：
1．一种聚合物配混料，该聚合物配混料含有由式(Ⅰ)-(Ⅲ)表示的单体单元：其中R1-R4分别是氢和/或甲基；P表示1-10之间所含的一个整数；X表示氢、碱金属或由式(1)表示的铵：其中R5-R8分别表示氢、C1-C3的烷基或C1-C3的烷醇基；并且多个Xs可以彼此相同或不同，这些单体单元的组成比例在下述范围之内：2％摩尔≤l≤73％摩尔；8％摩尔≤m≤83％摩尔；和15％摩尔≤n≤80％摩尔。
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