[发明专利]金属表面处理剂、金属材料的表面处理方法及表面处理金属材料

摘要

一种金属表面处理剂含有下式(Ⅰ)的树脂化合物、钒化合物及由Zr、Ti、Mo、W、Mn及Ce选出金属的化合物,[式中,R1表示—CH2—、—CH2—NH—CH2—或—CH=N—CH2—,Y为氢原子或一般式(Ⅱ)]；Z表示芳香族化合物残基等,W为H或基P,该P表示—CH2X、—CH2NHCH2X或—CH=NCH2X，[式中,X表示OH、OR4、卤素、—N(R5)(R6)或—N+(R7)(R8)(R9)A－],基P的取代比率为P的数目/(苯环的数目及基Z的数目之合)=0.2～4.0,n=0～29,m=0～10]。

主权项

1．一种金属表面处理剂，其特征在于含有具有用一般式(Ⅰ)所表示的树脂化合物(a)、至少一种的钒化合物(b)及由锆、钛、钼、钨、锰及铈而成的群体选出的至少一种金属的金属化合物(c)，式中，R1表示-CH2-、-CH2-NH-CH2-或-CH=N-CH2-，Y为氢原子或一般式(Ⅱ)(式中，R2、R3表示相互独立的氢原子或碳数1～3的烷基)，Z为具有由与甲醛加成缩合而得的芳香族化合物失去与已键合构成其芳香环的碳原子上的氢原子的1～4个的基-CH2X(式中X与後述的W的定义中的X同义)，或者，以n括住的构造中的芳香环基不同的二价的基，或三聚氰胺、鸟粪胺或尿素的二个氨基失去一次一个氢原子的二价基，各W分别为氢原子或基P，该基P为-CH2X、-CH2NHCH2或-CH=NCH2X[式中，X表示OH、OR4(R4表示碳数1～5的烷基或碳数1～5的羟烷基)、卤原子、或以一般式(Ⅲ)或(Ⅳ)表示的基团(式中，R5、R6、R7、R8及R9表示相互独立的氢原子，碳数1～10的烷基或碳数1～10的羟烷基，A-表示氢氧离子或酸离子)，基P的取代比例为P的数目/(苯环的数目及基Z的数目之合)=0.2～4.0，n表示0或1～29的整数，m表示0或1～10的整数。