[发明专利]相位分布及相位校正方法和装置以及磁共振成像方法和装置无效

专利信息
申请号: 00131879.9 申请日: 2000-10-23
公开(公告)号: CN1305113A 公开(公告)日: 2001-07-25
发明(设计)人: 三好光晴 申请(专利权)人: GE医疗系统环球技术有限公司
主分类号: G01R33/20 分类号: G01R33/20;G01R33/48
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 吴增勇,张志醒
地址: 美国威*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 为了即使存在局部干扰时也能计算精确的相位图并执行这种相位校正,对通过磁共振成像得到的图像进行低通滤波(702),检测其滤波后的值与滤波前的值的比值不超过预定比值的像素位置(704),计算除这些点的像素数据外的相位分布,从邻近像素位置的相位来估计所述被排除点的相位而提供补偿,以便使相位图完整。
搜索关键词: 相位 分布 校正 方法 装置 以及 磁共振 成像
【主权项】:
1.一种相位分布测量方法,它包括如下步骤:对通过磁共振成像得到的图像进行低通滤波,通过比较所述低通滤波前的图像和所述通道滤波后的图像的每一个对应像素的像素数据来检测这样的像素位置:对该像素位置而言,所述低通滤波后的值与所述低通滤波前的值的比值不超过预定的比值,排除所述检测到的像素位置的像素数据,根据所述低通滤波前的图像或所述低通滤波后的图像来计算相位分布,和通过从邻近像素位置的相位来估计所述计算的相位分布中所述被排除的像素位置的相位进行补偿。
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