[发明专利]制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法无效
| 申请号： | 00130570.0 | 申请日： | 2000-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN1122093C | 公开（公告）日： | 2003-09-24 |
| 发明（设计）人： | 大桥圭吾 | 申请（专利权）人： | 不二见株式会社 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;G11B5/84;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 白益华 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种抛光组合物，用于存储器硬盘用的磁盘基片，该抛光组合物包含：(a)组合物总重量的0.1-35％(重量)胶体二氧化硅作为磨料；(b)组合物总重量的0.04-2.2％(重量)硝酸铁作为抛光促进剂；(c)组合物总重量的0.4-22％(重量)柠檬酸作为稳定剂；(d)组合物总重量的0.155-9.3％(重量)过氧化氢作为抛光促进助剂；(e)水。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 存储器 硬盘 抛光 组合 方法 | ||
【主权项】：
1.一种抛光组合物，用于存储器硬盘用的磁盘基片，该抛光组合物包含：(a)组合物总重量的0.1-35％(重量)胶体二氧化硅作为磨料；(b)组合物总重量的0.04-2.2％(重量)硝酸铁作为抛光促进剂；(c)组合物总重量的0.4-22％(重量)柠檬酸作为稳定剂；(d)组合物总重量的0.155-9.3％(重量)过氧化氢作为抛光促进助剂；(e)水。
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