[发明专利]氧化铈抛光盘及其制造方法无效

专利信息
申请号: 00121249.4 申请日: 2000-08-10
公开(公告)号: CN1338355A 公开(公告)日: 2002-03-06
发明(设计)人: 常亚平 申请(专利权)人: 北京中电光明抛磨技术发展中心;常亚平
主分类号: B24B13/015 分类号: B24B13/015;B24B9/00
代理公司: 北京市汇泽专利商标事务所 代理人: 王玉华
地址: 100040*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种氧化铈抛光盘及其制造方法,抛光盘由圆形的底盘,中心孔,边孔及磨头构成;该盘用化纤布为基材,经浸胶,粘合,挤压及成形制成;使用寿命较进口产品长15%-30%;底盘更牢固,在使用周期内,不发生撕裂现象,其抗撕裂强度及抗剪切强度好于进口产品;磨头坚固性更好,基本不发生磨头掉块现象;整体抛光盘较进口的价低50-70%。
搜索关键词: 氧化 抛光 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种氧化铈抛光盘,由圆形的底盘(1),中心孔(2),边孔(3)及磨头(4)构成;磨头(4)由偶数个相同的顶部为圆弧形的扇形块组成;底盘(1)通过中心孔(2)及边孔(3)与抛光机的旋转盘固定连接;磨头(4)下面用粘合剂A与底盘(1)粘结,其上半部边缘倒角,倒角的角度与垂直方向成30度角;磨头(4)由磨片用粘合剂B径向粘结40-150层,经处理制成,磨片与扇形的一边成直角,与扇形的另一边成60度角,其特征在于:粘合剂A由下列按重量百分比配比的原料制成:过氯乙烯树脂28-38%乙酸乙脂30-40%丙酮30-40%;粘合剂B,由下列按重量百分比配比的原料制成:聚氨脂树脂18-28%溶剂DMF50-60%乙酸乙脂18-28%;所述磨片以尼龙纤维无纺布为基材,布厚2-7mm,纤维细度3-6登尼尔,经浸胶C浸胶处理制成,浸胶C由下列按重量百分比配比的原料制成:聚氨脂树脂18-30%溶剂DMF60-80%聚乙二醇辛基苯基醚1-5%聚山梨脂-801-5%;所述底盘以涤纶丝与耐纶丝分别为经纬线织成的涤耐纶布为基材,布厚2-7mm,经浸胶D浸胶处理制成,浸胶D由下列按重量百分比配比的原料制成:过氯乙烯树脂10-20%乙酸乙脂40-50%丙酮30-40%染料1-3%。
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