[发明专利]具有改进的防光件的照相处理设备无效
申请号: | 00120110.7 | 申请日: | 2000-07-17 |
公开(公告)号: | CN1281163A | 公开(公告)日: | 2001-01-24 |
发明(设计)人: | 小R·L·皮西尼诺;K·H·布拉克利;T·W·赫尔曼 | 申请(专利权)人: | 伊斯曼柯达公司 |
主分类号: | G03D3/13 | 分类号: | G03D3/13 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 崔幼平,章社杲 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种用于处理光敏介质的设备。该设备具有一用于使光敏介质穿过设备的处理路径,和一用于使光敏介质进入处理路径的防光输送槽组件。该防光输送槽组件包含一在其一端有一入口而在其另一端有一出口的导管。该导管具有在入口和出口之间形成一基本上为蛇形通道的构形,从而防止可能邻近入口的漫射光到达出口。 | ||
搜索关键词: | 具有 改进 防光件 照相 处理 设备 | ||
【主权项】:
1.一种用于处理光敏介质的设备,所述设备具有一使第一光敏介质通过该设备的处理路径,和一用于在沿所述处理路径的一点处使第二光敏介质送入所述处理路径的防光输送槽组件,该防光输送槽组件包含:一具有一对相对布置的侧壁的导管,每一所述侧壁具有一形成一入口、一出口和一在所述入口和所述出口之间的窄的输送通道的内表面,所述入口延伸到所述设备的外部,而所述导管定位成将光敏介质引导到所述处理通道,所述导管具有一从入口到出口的弯曲构形,每一所述侧壁具有至少一个沿通道的宽度延伸的突出部件,朝向相对的侧壁延伸,所述突出部件具有的构形基本上阻止了发源于入口的光线从出口出去,从而基本上不存在对通过处理通道的介质的光线干扰。
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