[发明专利]用于叠层测量的方法和设备无效
| 申请号： | 00118612.4 | 申请日： | 2000-06-16 |
| 公开（公告）号： | CN1329246A | 公开（公告）日： | 2002-01-02 |
| 发明（设计）人： | 克里斯·古尔德;K·保罗·穆勒;V·C·贾帕凯什;罗伯特·范·德·伯格 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司;英芬能技术北美公司 |
| 主分类号： | G01N21/41 | 分类号： | G01N21/41 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 李德山 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于测量半导体晶片(33)上不同层之间对准的方法,包括在晶片(33)不同层上形成具有大致相同周期的重复对准标记(14、24)。叠层对准标记(14、24)的图像通过傅里叶变换从空域转换至频域。通过计算对应于不同层上重复图纹(14、24)的图像之间的相位差来进行对准测量。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 测量 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用于测量第一图纹与第二图纹之间对准的方法，包括如下步骤：分别产生第一图纹部分和第二图纹部分的第一数字图像和第二数字图像；并且比较该第一数字图像与第二数字图像以计算第一图纹与第二图纹之间的对准。
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