[发明专利]含有环烯烃聚合物及疏水非甾族多脂环添加剂的光刻胶组合物有效
| 申请号： | 00103850.8 | 申请日： | 2000-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN1269530A | 公开（公告）日： | 2000-10-11 |
| 发明（设计）人： | P·R·瓦拉纳斯;J·F·马尼斯卡科 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王景朝,王其灏 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种酸催化正型光刻胶组合物,它可以用193nm波长射线成像,而且可以显影形成高分辨及高抗蚀性的光刻胶结构物,所述组合物可以采用环烯烃聚合物、光敏产酸剂及含多个酸不稳定性连接基团的疏水非甾族多脂环组份的混合物。所述环烯烃聚合物优选含有i)带有极性官能团的环烯烃单元;ii)具有酸不稳定性基团的环烯烃单元,所述酸不稳定性基团能抑制碱水溶液中的溶解度。 | ||
| 搜索关键词： | 含有 烯烃 聚合物 疏水 非甾族多脂环 添加剂 光刻 组合 | ||
【主权项】：
1.一种光刻胶组合物，包含(a)环烯烃聚合物，(b)光敏产酸剂，及(c)含多个酸不稳定性连接基的疏水非甾族多脂环组份。
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