[发明专利]磁头及其制造方法和磁盘设备无效
| 申请号： | 00101199.5 | 申请日： | 2000-01-26 |
| 公开（公告）号： | CN1262504A | 公开（公告）日： | 2000-08-09 |
| 发明（设计）人： | 八木伊知郎 | 申请（专利权）人： | TDK株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/187 | 分类号： | G11B5/187;G11B5/60 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王忠忠 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 其空气支撑表面适当经过粗糙化的磁头及其制造方法和磁盘设备,先是将碳化钛粒料分散入铝氧氧粉中制取TiC·Al2O3,再在TiC·Al2O3制成的基座上形成磁头磁芯部分,然后形成空气支撑表面。接着进行等离子体氧化处理,有选择地只在空气支撑表面中基座部分上形成许多高约5纳米的突出部分。突出部分由氧化钛组成,具体作法是有选择地氧化空气支撑表面上碳化钛粒料的外露部分。 | ||
| 搜索关键词： | 磁头 及其 制造 方法 磁盘 设备 | ||
【主权项】：
1.一种磁头，包括：一个基座；和一个磁头磁芯部分，在基座上形成，包括至少一个磁头写入元件或磁头读出元件；其中，基座的端面和磁头磁芯部分的端面形成应面向记录媒体的扁平表面，同时基座的端面比磁头磁芯部分的端面粗糙。
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