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[发明专利]光刻系统、在光刻系统内转移基板的装置及方法-CN201710164699.9有效
发明人： V.S.凯珀;E.斯洛特;M.N.J.范科温克;G.德博尔;H.J.德琼 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2012-05-01 - 公布日： 2020-03-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本公开涉及一种用于在光刻系统内转移基板的装置，光刻系统包括与基板供应系统的接口和基板预备单元，与所述基板供应系统的接口用于接收未受夹箝的基板，所述基板预备单元用于将未受夹箝的基板夹箝至基板支承结构上；其中所述装置包括主体，所述主体设置有第一组指部和第二组指部，所述第一组指部用于运载未受夹箝的基板，所述第二组指部用于运载基板支承结构，基板被夹箝在所述基板支承结构上；其中所述第一组指部具有与所述第二组指部中的指部不同的形状，并且在所述第一组指部和所述第二组指部之间高度的差异超过所述基板支承结构的厚度。
光刻系统转移装置方法

[发明专利]将目标从基板转移系统转移至光刻系统的装置和方法-CN201710164697.X在审
发明人： V.S.凯珀;E.斯洛特;M.N.J.范科温克;G.德博尔;H.J.德琼 -专利权人：迈普尔平版印刷IP有限公司
申请日： 2012-05-01 - 公布日： 2017-06-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本公开涉及一种用于将目标从基板转移系统转移至光刻系统的真空室的装置，目标包括基板或夹箝基板的基板支承结构，装置包括负载锁定室，用于将目标转移至光刻系统的真空室内和光刻系统的真空室外，负载锁定室包括第一壁和第二壁，第一壁中具有提供机器人空间和负载锁定室内部之间的接入的第一通道，第二壁中具有提供负载锁定室的内部和光刻系统的真空室之间的接入的第二通道；和多个操纵机器人，用于转移所述目标，其中多个操纵机器人包括第一操纵机器人，其可在机器人空间内移动，以接入基板转移系统和负载锁定室的第一通道；和第二操纵机器人，其可在负载锁定室内移动，以接入负载锁定室的第一通道和负载锁定室的第二通道。
目标转移系统光刻装置方法

[发明专利]具有对准传感器和射束测量传感器的带电粒子光刻系统-CN201380022770.X有效
发明人： P.I.谢弗斯;J.A.梅杰;E.斯洛特;V.S.凯珀;N.弗奇尔 -专利权人：迈普尔平版印刷IP有限公司
申请日： 2013-03-08 - 公布日： 2017-05-17 - 主分类号： H01J37/304 文献下载
摘要：一种多细射束带电粒子细射束光刻系统，用于将图案转移至基板的表面。该系统包括投射系统(311)，用于将多个带电粒子细射束(7)投射至该基板的表面上；卡盘(313)，可相对于该投射系统移动；细射束测量传感器(505、511)，用于确定一个或多个带电粒子细射束的一个或多个特征，该细射束测量传感器具有表面(501)，用于接收一个或多个带电粒子细射束；以及位置标记测量系统，用于测量位置标记的位置(610、620、635)，该位置标记测量系统包括对准传感器(361、362)。该卡盘包括基板支持部分，用于支持该基板；细射束测量传感器部分(460)，用于容纳该细射束测量传感器的表面；以及位置标记部分(470)，用于容纳该位置标记。
具有对准传感器测量带电粒子光刻系统

[发明专利]在光刻系统中处理基板的方法-CN201280032577.X有效
发明人： V.S.凯珀;E.斯洛特;M.N.J.范科温克;G.德博尔;H.J.德琼 -专利权人：迈普尔平版印刷IP有限公司
申请日： 2012-05-01 - 公布日： 2017-04-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种在光刻系统的光刻系统单元中处理基板的方法，光刻系统单元包括至少两个基板预备单元（360a‑360d）、包括至少第一和第二基板位置的负载锁定单元（310）、和用于在基板预备单元与负载锁定单元之间转移基板的操纵基板的机器人。该方法包括将一连串待曝光的基板提供给机器人，这些基板包括一第N个基板、一在该第N个基板的前一个的第N‑1个基板、以及一在该第N个基板的后一个的第N+1个基板；借助于机器人将第N个基板转移至基板预备单元中的第一个；将第N个基板夹箝在第一基板预备单元中的第一基板支承结构上，第N个基板和第一基板支承结构一起形成受夹箝的第N个基板；借助于机器人将受夹箝的第N个基板从第一基板预备单元转移至负载锁定单元中的第一和第二位置中未被占用的一个，以用于在光刻系统单元中曝光；和在光刻系统单元中曝光受夹箝的第N个基板。
光刻系统处理方法

[发明专利]光刻系统和在该光刻系统中处理基板的方法-CN201180067573.0有效
发明人： G.德波尔;H.J.德琼;V.S.凯珀;E.斯洛特 -专利权人：迈普尔平版印刷IP有限公司
申请日： 2011-12-13 - 公布日： 2013-10-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明关于一种包括多个光刻系统单元的光刻系统(300)。每一个光刻系统单元都包括：光刻设备(301)，其被排列在真空腔室中，用以图案化基板；装载锁定系统(310)，用以将基板传输至该真空腔室里面和外面；以及出入口，用以达到进入该真空腔室以进行维修的目的。每一个光刻系统单元的装载锁定系统与出入口会被提供在相同侧并且面向该光刻系统某一侧的自由区，明确地说，面向维修区(305)。
光刻系统处理方法