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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]图案化方法-CN202111229032.5在审
发明人： V·M·布兰卡;F·拉扎瑞诺 -专利权人： IMEC 非营利协会
申请日： 2021-10-21 - 公布日： 2022-07-19 - 主分类号： H01L21/033 文献下载
摘要：根据一个方面，提供了一种图案化方法，其包含：在下部图案记忆层上，形成第一上部阻挡的图案，然后形成上部图案记忆层，然后形成第二上部阻挡的图案；随后，使用光刻和蚀刻在上部图案记忆层中图案化上沟槽，并沿上沟槽的侧壁形成间隔线，以限定提供间隔的上沟槽，至少一个子集被相应的第一上部阻挡中断；通过将提供间隔的上沟槽蚀刻到下部图案记忆层中，在下部图案记忆层中形成第一下沟槽，第一下沟槽的至少一个子集被保留在由第一上部阻挡中的相应阻挡限定的位置处的下部图案记忆层部分中断；随后，形成辅助沟槽掩模堆叠体并使用光刻和蚀刻使其中的辅助沟槽图案化；和此后，对下部图案记忆层中的第二下沟槽进行图案化，图案化包括：使用图案化的辅助沟槽掩模堆叠体、间隔线和第二上部阻挡作为蚀刻掩模，第二下沟槽的至少一个子集被保留在由所述第二上部阻挡中的相应阻挡所限定的位置处的下部图案记忆层部分中断。
图案方法

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