“S.E.霍赫施特特勒”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果2个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]从衬底去除物质的方法和组合物-CN201380002634.4有效
发明人： R.D.彼得斯;T.阿克拉;曹远美;S.E.霍赫施特特勒;M.T.菲尼斯;K.D.波拉 -专利权人：慧盛材料美国有限责任公司
申请日： 2013-04-24 - 公布日： 2019-07-16 - 主分类号： C11D11/00 文献下载
摘要：描述可用于从衬底，例如光致抗蚀剂晶圆去除有机和有机金属物质的组合物。方法呈现为将最小体积的组合物以涂层形式施加于无机衬底，其中施加充分的热量，以及通过冲洗完全去除有机或有机金属物质。该组合物和方法可适用于从电子设备去除，以及在一些情况下，完全溶解正性和负性类型的光致抗蚀剂，和特别是负性干燥膜光致抗蚀剂。
衬底去除物质方法组合

[发明专利]从衬底中去除物质的方法-CN201380002637.8在审
发明人： R.D.彼得斯;T.阿克拉;S.E.霍赫施特特勒 -专利权人：戴纳洛伊有限责任公司
申请日： 2013-04-24 - 公布日： 2014-07-30 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：描述从衬底，例如电子设备去除物质的方法。在一个实施方案中，一种方法可以包括提供衬底，该衬底包括第一侧和第二侧，一种物质置于衬底第一侧的至少一部分上。该方法还可以包括使衬底与溶液接触，使得衬底的第一侧被溶液涂布，至少一部分第二侧不含溶液，以及从衬底的第一侧释放至少一部分所述物质。另外，该方法可以包括冲洗衬底，以去除从衬底第一侧释放的至少一部分所述物质。该方法可以适用于去除，以及在一些情况下，完全溶解正性和负性种类的光致抗蚀剂。
衬底去除物质方法