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[发明专利]用于梳状驱动MEMS装置的系统和方法-CN201710239819.7有效
发明人： S.比泽尔特;A.德赫;H.弗勒利希;T.考奇;M.纳瓦茨;A.希雷 -专利权人：英飞凌科技德累斯顿有限责任公司
申请日： 2017-04-13 - 公布日： 2020-02-28 - 主分类号： B81C1/00 文献下载
摘要：根据实施例，形成MEMS换能器的方法包括在单晶硅层中形成换能器框架，其中形成换能器框架包括邻近腔形成支撑部分并且形成从支撑部分延伸的第一梳齿集合。形成MEMS换能器的方法进一步包括形成从锚定装置到支撑部分的弹性支撑以及在单晶硅层中形成第二梳齿集合。第二梳齿集合与第一梳齿集合交错对插。
用于驱动 mems 装置系统方法

[发明专利]微机械系统和用于制造微机械系统的方法-CN201510363290.0有效
发明人： S.比泽尔特;B.宾德;H.弗勒利希;T.考奇;M.施特格曼;M.福格特 -专利权人：英飞凌科技德累斯顿有限责任公司
申请日： 2015-06-26 - 公布日： 2018-10-19 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：微机械系统和用于制造微机械系统的方法。制造微机械系统的方法包括在FEOL工艺中在晶体管区域中形成晶体管的步骤。在FEOL工艺之后，在晶体管区域中沉积保护层，其中保护层包括隔离材料。至少在不是晶体管区域的区域中形成结构化牺牲层。此外，形成至少部分覆盖结构化牺牲层的功能层。在形成功能层之后，去除牺牲层以便在功能层与沉积有牺牲层的表面之间产生空腔。保护层保护晶体管避免在MOL以及BEOL工艺中的进一步处理步骤中的蚀刻工艺期间受到损害。相同的氧化物可以用作BEOL中的金属化工艺的基础。因此，通常用作晶体管的保护的保护层可以保留在晶体管上方。因此，在BEOL工艺之前施加的保护层变成氧化物覆盖物的部分。
微机系统用于制造方法