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[发明专利]用于预测器件制造工艺的良率的方法-CN202210869852.9在审
发明人： A·雅玛;C·E·塔贝里;S·H·C·范戈尔普;林晨希;D·索恩塔格;H·E·切克利;R·阿尔瓦雷斯·桑切斯;刘士嵚;S·P·S·哈斯廷斯;B·门奇特奇科夫;C·T·德鲁伊特尔;P·滕伯格;M·J·勒塞尔;段薇;P-Y·J·Y·吉特 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-03-29 - 公布日： 2022-10-21 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本公开涉及用于预测器件制造工艺的良率的方法。一种用于预测经受工艺的衬底的电特性的方法和相关联的计算机程序。该方法包括：基于电计量数据和包括至少一个参数的测量的工艺计量数据的分析，确定电特性对工艺特性的灵敏度，电计量数据包括从先前处理的衬底测量的电特性，至少一个参数与从先前处理的衬底测量的工艺特性相关；获取与衬底相关的描述至少一个参数的工艺计量数据；以及基于灵敏度和工艺计量数据，预测衬底的电特性。
用于预测器件制造工艺方法

[发明专利]用于预测器件制造工艺的良率的方法-CN201880029609.8有效
发明人： A·雅玛;C·E·塔贝里;S·H·C·范戈尔普;林晨希;D·索恩塔格;H·E·切克利;R·阿尔瓦雷斯·桑切斯;刘士嵚;S·P·S·哈斯廷斯;B·门奇特奇科夫;C·T·德鲁伊特尔;P·滕伯格;M·J·勒塞尔;段薇;P-Y·J·Y·吉特 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-03-29 - 公布日： 2022-08-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种用于预测经受工艺的衬底的电特性的方法和相关联的计算机程序。该方法包括：基于电计量数据和包括至少一个参数的测量的工艺计量数据的分析，确定电特性对工艺特性的灵敏度，电计量数据包括从先前处理的衬底测量的电特性，至少一个参数与从先前处理的衬底测量的工艺特性相关；获取与衬底相关的描述至少一个参数的工艺计量数据；以及基于灵敏度和工艺计量数据，预测衬底的电特性。
用于预测器件制造工艺方法

[发明专利]确定器件制造工艺的控制参数的方法-CN202210429378.8在审
发明人： W·T·特尔;M·J·马斯洛;K·范因根·舍瑙;P·沃纳尔;A·斯拉克特;R·阿努西亚多;S·H·C·范戈尔普;F·斯塔尔斯;M·乔彻姆森 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-08-22 - 公布日： 2022-07-08 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本文中公开了一种用于确定制造工艺的一个或多个控制参数的方法，所述制造工艺包括光刻工艺和一个或多个另外的工艺，所述方法包括：获取衬底的至少一部分的图像，其中所述图像包括通过制造工艺而被制造在衬底上的至少一个特征；取决于从图像确定的轮廓，计算一个或多个图像相关度量，其中图像相关度量中的一项是至少一个特征的边缘位置误差EPE；以及取决于边缘位置误差，确定光刻工艺和/或一个或多个另外的工艺的一个或多个控制参数，其中至少一个控制参数被确定以便最小化至少一个特征的边缘位置误差。
确定器件制造工艺控制参数方法

[发明专利]确定器件制造工艺的控制参数的方法-CN201880062857.2有效
发明人： W·T·特尔;M·J·马斯洛;K·范因根·舍瑙;P·沃纳尔;A·斯拉克特;R·阿努西亚多;S·H·C·范戈尔普;F·斯塔尔斯;M·乔彻姆森 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-08-22 - 公布日： 2022-04-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本文中公开了一种用于确定制造工艺的一个或多个控制参数的方法，该制造工艺包括光刻工艺和一个或多个另外的工艺，该方法包括：获取衬底的至少一部分的图像，其中该图像包括通过制造工艺而被制造在衬底上的至少一个特征；取决于从图像确定的轮廓，计算一个或多个图像相关度量，其中图像相关度量中的一项是至少一个特征的边缘位置误差EPE；以及取决于边缘位置误差，确定光刻工艺和/或一个或多个另外的工艺的一个或多个控制参数，其中至少一个控制参数被确定以便最小化至少一个特征的边缘位置误差。
确定器件制造工艺控制参数方法

[发明专利]控制光刻装置的方法和相关装置-CN202080022847.3在审
发明人： F·斯塔尔斯;S·H·C·范戈尔普 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2020-02-17 - 公布日： 2021-11-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：公开了一种用于配置用于向衬底上的层提供结构的装置的方法，该方法包括：获取第一数据，该第一数据包括在结构到衬底上的层的提供之前测量和/或建模的衬底特定数据；以及针对至少两个不同控制方案基于上述第一数据和包括与至少两个控制方案相关联的参数的共同评价函数的使用来确定该装置的配置。
控制光刻装置方法相关

[发明专利]电压对比量测标记-CN201880079555.6在审
发明人： C·E·塔贝里;S·H·C·范戈尔普;S·P·S·哈斯廷斯;B·彼得森 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-12-07 - 公布日： 2020-07-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：公开了一种测量标记。根据某些实施例，该测量标记包括显影在衬底上的第一层中的第一测试结构集合，第一测试结构集合中的每个第一测试结构包括由第一导电材料制成的多个第一特征。该测量标记还包括显影在邻近第一层的第二层中的第二测试结构集合，第二测试结构集合中的每个第二测试结构包括由第二导电材料制成的多个第二特征。测量标记被配置为：当使用电压对比成像方法而被成像时，指示第一测试结构集合与第二测试结构集合中的相关联的第二测试结构之间的连接性。
电压比量标记