专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]横向生长的纳米管和形成方法-CN200680043309.2无效
  • M·K·奥罗斯基;S·拉弗;P·L·G·文特泽克 - 飞思卡尔半导体公司
  • 2006-09-27 - 2009-08-19 - H01L29/08
  • 本发明公开一种横向生长纳米管的方法以及半导体。半导体器件(10)具有由诸如碳的纳米管形成的横向导体或轨迹。形成在衬底(12)上面的牺牲层(16)。形成在牺牲层上面的电介质层(18)。通过去除电介质层的一部分和位于金属催化剂的两个柱体之间的牺牲层而形成横向开口(34)。横向开口包含颈状部分和用作生长纳米管的受限空间的空腔部分。等离子体(36)被用于施加电荷,该电荷形成控制纳米管的形成方向的电场。源自金属催化剂的各柱体的纳米管(42、44)横向生长并且邻接或合并成一个纳米管。可以从颈状部分(24)或金属催化剂(20、22)的柱体形成与纳米管的接触。
  • 横向生长纳米形成方法

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