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[发明专利]用于X射线散射测量系统的全光束度量-CN202111172803.1有效
发明人： A·吉里纽;T·G·奇乌拉;J·亨奇;A·韦尔德曼;S·佐卢布斯基 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2017-10-17 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： H01J37/252 文献下载
摘要：本发明涉及用于X射线散射测量系统的全光束度量。本文中描述用于通过全光束X射线散射测量而特性化半导体装置的尺寸及材料性质的方法及系统。全光束X射线散射测量涉及使用X射线光束照明样本且同时针对相对于所述样本的一或多个入射角检测所得零衍射级及较高衍射级的强度。直射光束及经散射级的同时测量实现具有经改进准确度的高处理量测量。全光束X射线散射测量系统包含：一或多个光子计数检测器，其具有高动态范围；及厚、高吸收性晶体衬底，其吸收具有最小寄生反向散射的直射光束。在其它方面中，基于零衍射级光束执行基于模型的测量，且基于所述经测量零级光束的性质估计及控制所述全光束X射线散射测量系统的测量性能。
用于射线散射测量系统光束度量

[发明专利]用于X射线散射测量系统的全光束度量-CN201780064269.8有效
发明人： A·吉里纽;T·G·奇乌拉;J·亨奇;A·韦尔德曼;S·佐卢布斯基 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2017-10-17 - 公布日： 2021-10-26 - 主分类号： H01J37/252 文献下载
摘要：本文中描述用于通过全光束X射线散射测量而特性化半导体装置的尺寸及材料性质的方法及系统。全光束X射线散射测量涉及使用X射线光束照明样本且同时针对相对于所述样本的一或多个入射角检测所得零衍射级及较高衍射级的强度。直射光束及经散射级的同时测量实现具有经改进准确度的高处理量测量。全光束X射线散射测量系统包含：一或多个光子计数检测器，所述一或多个光子计数检测器具有高动态范围；及厚、高吸收性晶体衬底，其吸收具有最小寄生反向散射的直射光束。在其它方面中，基于零衍射级光束执行基于模型的测量，且基于所述经测量零级光束的性质估计及控制所述全光束X射线散射测量系统的测量性能。
用于射线散射测量系统光束度量

[发明专利]用于半导体计量的液态金属旋转阳极X射线源-CN201880064258.4有效
发明人： S·佐卢布斯基 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2018-10-18 - 公布日： 2021-07-06 - 主分类号： H01J35/10 文献下载
摘要：本文中提出用于实现适用于高处理量x射线计量的高亮度、基于液体的x射线源的方法及系统。通过使用电子流轰击旋转液态金属阳极材料来产生x射线辐射以产生高亮度x射线源。旋转阳极支撑结构在按恒定角速度旋转时，将所述液态金属阳极材料支撑在相对于所述支撑结构的固定位置中。在另一方面中，平移致动器经耦合到旋转组合件，以在平行于旋转轴的方向上平移所述液态金属阳极。在另一方面中，输出窗经耦合到所述旋转阳极支撑结构。经发射x射线经透射穿过所述输出窗朝向所测量样品。在另一方面中，围阻窗独立于旋转角速度维持所述液态金属阳极材料的形状。
用于半导体计量液态金属旋转阳极射线

[发明专利]透射小角度X射线散射计量系统-CN201880023876.4在审
发明人： A·舒杰葛洛夫;A·吉里纽;S·佐卢布斯基 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2018-04-13 - 公布日： 2019-12-06 - 主分类号： G01N23/201 文献下载
摘要：本文中描述用于通过具有相对小工具占用面积的透射小角度x射线散射测量TSAXS系统表征半导体装置的尺寸及材料性质的方法及系统。本文中描述的所述方法及系统实现适合用于具有减小的光学路径长度的半导体结构的计量的Q空间分辨率。一般来说，所述x射线光束针对相对小目标经聚焦更接近晶片表面且针对相对大目标经聚焦更接近检测器。在一些实施例中，采用具有小点扩散函数PSF的高分辨率检测器以缓解对可实现Q分辨率的检测器PSF限制。在一些实施例中，所述检测器通过确定由光子转换事件刺激的电子云的质心而以子像素准确度定位入射光子。在一些实施例中，除了入射位置之外，所述检测器还分辨一或多个x射线光子能量。
检测器光子电子云聚焦半导体结构半导体装置尺寸及材料接近检测器空间分辨率高分辨率光学路径晶片表面入射位置散射测量系统表征系统实现转换事件准确度小工具小目标子像素分辨率透射减小入射小点质心分辨计量占用扩散刺激缓解