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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]液滴喷射装置中的流体再循环-CN201180063091.8有效
发明人： P·A·霍伊辛顿;C·门策尔;M·G·奥托松;K·福内森 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2011-12-07 - 公布日： 2016-10-26 - 主分类号： B05B1/28 文献下载
摘要：流体喷射设备包括在流体歧管和基底之间的流体分布层。流体分布层包括流体供应通道和流体返回通道。每个流体供应通道从流体供应室接收流体并使接收到的流体的一部分通过返回侧旁路流动返回到流体返回室。基底包括多个流动路径，每个流动路径包括用于喷射流体液滴的喷嘴。每个流动路径从对应流体供应通道接收流体，并使未喷射的流体经通道进入对应的流体返回通道。每个流体返回通道可从一个或多个流动路径和供应侧旁路收集未喷射的流体，并使收集到的流体返回到流体供应室。
喷射装置中的流体再循环

[发明专利]流体喷射装置的喷嘴板维护-CN201310499594.0有效
发明人： P·A·霍伊辛顿;A·比布尔;J·比克迈尔;M·G·奥托松;A·哈贾蒂 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2013-10-22 - 公布日： 2014-05-07 - 主分类号： B41J2/01 文献下载
摘要：一种喷墨打印头包括：喷嘴板，其具有下侧并且在下侧中包括一个或多个构造为在分配方向上分配流体液滴的喷嘴；以及多水平维护结构，其结合至喷嘴板以使得间隙存在于维护结构的一部分与喷嘴板的下侧之间。维护结构包括：第一部分，其具有距喷嘴板的下侧以第一距离悬垂的第一上表面；以及第二部分，其结合至第一部分，第二部分具有距喷嘴板的下侧以第二距离悬垂的第二上表面，第二距离大于第一距离，第二上表面相对于第一上表面侧向地位移。
流体喷射装置喷嘴维护

[发明专利]用于传送和再循环流体的系统和方法-CN201310158603.X有效
发明人： K·V·埃森;J·A·希金森;P·A·霍伊辛顿;D·S·美波 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2013-05-02 - 公布日： 2013-11-06 - 主分类号： B41J2/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于传送和再循环流体的系统和方法。除其它方面以外，还描述了用于打印的装置。该装置包括用于容纳流体的第一室和第一室中的第一过滤构件。第一过滤构件将第一室分隔成第一部分和与第一部分横向相邻的第二部分。第一过滤构件包括具有平均尺寸的孔。该孔配置为对从第一部分通向第二部分的流体进行过滤。第一过滤构件还包括与第一室的顶部相邻的开口，用于使空气从第一部分通向第二部分。该开口的尺寸至少是该孔的平均尺寸的10倍。存在与第一部分流体连通的第一入口和与第二部分流体连通的第一出口。
用于传送再循环流体系统方法

[发明专利]流体喷射设备中的旁路流体循环-CN201310140984.9有效
发明人： K·V·埃森;P·A·霍伊辛顿 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2013-04-22 - 公布日： 2013-11-06 - 主分类号： B41J2/175 文献下载
摘要：流体喷射设备包括流体歧管、耦合到流体歧管的基板、以及设置在流体歧管与基板之间的流体分配结构。流体歧管包括流体供应室和流体返回室。基板限定流动路径，所述流动路径包括用于接收流体的流动路径入口、用于喷射流体液滴的喷嘴和用于引导走未喷射流体的流动路径出口。流体分配结构包括流体供应通道，其包括流体地耦合到流体供应室的供应入口和流体地耦合到流动路径的供应出口。流体分配结构还包括流体旁路通道，其包括流体地耦合到流体供应室的旁路入口、流体地耦合到流体返回室的旁路出口、以及在旁路入口与旁路出口之间向流体旁路通道提供补充流动阻力的流动抑制器。流动抑制器包括收敛-发散式狭道区段。
流体喷射设备中的旁路循环

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共 4 条

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