专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]梳附件和套件-CN202220246295.0有效
  • M·F·艾凯尔坎普;A·W·德弗里斯;M·C·彼得利;T·R·M·欣;P·金格玛 - 皇家飞利浦有限公司
  • 2022-01-30 - 2022-09-09 - B26B19/20
  • 本公开的实施例涉及梳附件和套件。提供了一种梳附件,该梳附件包括齿条部件和齿轮组件。齿条部件由梳和壳体中的一者限定并且包括齿条。壳体被配置为附接到刀片系统,并且齿轮组件包括齿轮部件,该齿轮部件由梳和壳体中的另一者限定。齿轮组件还包括轴和齿轮,轴由齿轮部件保持,齿轮设置在轴上,使得齿轮能够相对于齿轮部件旋转。齿条和齿轮被布置为协作以使得齿轮在轴上的旋转引起在梳和壳体之间的相对线性移动。梳附件包括锁定机构,被配置为可旋转地锁定齿轮,该锁定机构包括突起和缺口,突起和缺口被配置为接合以锁定齿轮。齿轮能够在锁定位置和解锁位置之间移动,在锁定位置中突起和缺口被接合,在解锁位置中突起和缺口被脱离。
  • 附件套件
  • [发明专利]清洁装置-CN201880014008.X有效
  • B·J·德维特;M·H·鲁伯斯;P·金格玛 - 皇家飞利浦有限公司
  • 2018-02-12 - 2022-08-09 - A47L11/20
  • 一种清洁装置包括:表面相互作用层(ML);清洁流体供应部(CFF),其在表面相互作用层(ML)处设有清洁流体通道(CFC),以用于通过表面相互作用层(ML)与表面(F)接触来将清洁流体(CF)供应给表面(F);以及脏流体排出部(DFD),其在表面相互作用层(ML)处设有脏流体通道(DFC),以用于通过表面相互作用层(ML)与表面(F)接触借助于负压来排出脏水。
  • 清洁装置
  • [发明专利]梳附件和套件-CN202210113628.7在审
  • M·F·艾凯尔坎普;A·W·德弗里斯;M·C·彼得利;T·R·M·欣;P·金格玛 - 皇家飞利浦有限公司
  • 2022-01-30 - 2022-08-02 - B26B19/20
  • 本公开的实施例涉及梳附件和套件。提供了一种梳附件,该梳附件包括齿条部件和齿轮组件。齿条部件由梳和壳体中的一者限定并且包括齿条。壳体被配置为附接到刀片系统,并且齿轮组件包括齿轮部件,该齿轮部件由梳和壳体中的另一者限定。齿轮组件还包括轴和齿轮,轴由齿轮部件保持,齿轮设置在轴上,使得齿轮能够相对于齿轮部件旋转。齿条和齿轮被布置为协作以使得齿轮在轴上的旋转引起在梳和壳体之间的相对线性移动。梳附件包括锁定机构,被配置为可旋转地锁定齿轮,该锁定机构包括突起和缺口,突起和缺口被配置为接合以锁定齿轮。齿轮能够在锁定位置和解锁位置之间移动,在锁定位置中突起和缺口被接合,在解锁位置中突起和缺口被脱离。
  • 附件套件
  • [发明专利]清洁装置-CN202011312169.2有效
  • B·J·德维特;M·H·鲁伯斯;P·金格玛 - 皇家飞利浦有限公司
  • 2018-02-12 - 2022-05-06 - A47L11/20
  • 本公开的实施例涉及清洁装置。一种清洁装置包括:表面相互作用层(ML);清洁流体供应部(CFF),其在表面相互作用层(ML)处设有清洁流体通道(CFC),以用于通过表面相互作用层(ML)与表面(F)接触来将清洁流体(CF)供应给表面(F);以及脏流体排出部(DFD),其在表面相互作用层(ML)处设有脏流体通道(DFC),以用于通过表面相互作用层(ML)与表面(F)接触借助于负压来排出脏水。
  • 清洁装置
  • [发明专利]清洁装置-CN202011313518.2在审
  • B·J·德维特;M·H·鲁伯斯;P·金格玛 - 皇家飞利浦有限公司
  • 2018-02-12 - 2021-03-12 - A47L11/20
  • 本公开的实施例涉及清洁装置。一种清洁装置包括:表面相互作用层(ML);清洁流体供应部(CFF),其在表面相互作用层(ML)处设有清洁流体通道(CFC),以用于通过表面相互作用层(ML)与表面(F)接触来将清洁流体(CF)供应给表面(F);以及脏流体排出部(DFD),其在表面相互作用层(ML)处设有脏流体通道(DFC),以用于通过表面相互作用层(ML)与表面(F)接触借助于负压来排出脏水。
  • 清洁装置

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