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[发明专利]尺寸性二氧化硅基多孔硅结构及其制造方法-CN201180040775.6有效
发明人： R·A·贝尔曼;N·F·伯雷利;D·A·德纳卡;S·M·奥马利;V·M·施耐德 -专利权人：康宁股份有限公司
申请日： 2011-08-11 - 公布日： 2013-04-24 - 主分类号： C25D11/32 文献下载
摘要：本发明考虑了制造含多孔硅层的尺寸性二氧化硅基基材或结构的方法。根据一个实施方式，通过在加热的惰性气氛中使金属气体与二氧化硅玻璃基材反应，将氧从所述基材的原子元素组成中提取出来，以沿着所述基材的表面形成金属-氧复合物。将所述金属-氧复合物从所述二氧化硅玻璃基材的表面除去以产生晶体多孔硅表面部分，并在所述二氧化硅玻璃基材的晶体多孔硅表面部分上形成一层或多层附加层以产生含所述多孔硅层的尺寸性二氧化硅基基材或结构。还考虑了其它实施方式，其中所述基材是玻璃基的玻璃基材，而不一定是二氧化硅基的玻璃基材。本发明还描述了其他的实施方式，并要求专利保护。
尺寸二氧化硅基多结构及其制造方法

[发明专利]用于光伏装置的织构化覆材-CN201080054229.3无效
发明人： N·F·伯雷利;D·W·哈尔;G·E·科恩基;S·马加诺维克 -专利权人：康宁股份有限公司
申请日： 2010-11-30 - 公布日： 2012-08-22 - 主分类号： H01L31/0236 文献下载
摘要：本文所述为诸如具有光散射性质的硅串联光伏电池的光伏电池用织构化覆材，所述光散射性质足以不依赖于波长进行光俘获。通过用于制备织构化覆材的方法，可以调节覆材的织构化表面的特征，以提供所需的光散射/俘获性质。所述方法包括对玻璃覆材进行研磨和磨光或者研磨、磨光和蚀刻。
用于装置织构化覆材

[发明专利]利用薄膜SOI的图像传感器-CN200780040019.7无效
发明人： N·F·伯雷利;M·D·布拉迪;R·L·伯特;K·P·加德卡里 -专利权人：康宁股份有限公司
申请日： 2007-09-14 - 公布日： 2009-11-18 - 主分类号： H01L27/146 文献下载
摘要：与一个或多个实施例的图像传感器相关的系统和方法包括：使供体半导体晶片经受离子注入过程以在供体半导体晶片上形成半导体薄膜的剥离层，通过电解在剥离层与绝缘体衬底之间形成阳极接合；从供体半导体晶片分离剥离层以将剥离层转移到绝缘体衬底；以及形成邻近剥离层的多个图像传感器部件。通过电解形成阳极接合可包括向绝缘体结构以及附连到供体半导体晶片的剥离层施加热、压力和电压。图像传感器器件包括绝缘体结构、半导体薄膜、它们之间的阳极接合以及多个图像传感器部件。半导体薄膜优选地包括基本上单晶的供体半导体晶片的剥离层。
利用薄膜 soi 图像传感器

[发明专利]紫外光敏熔融玻璃-CN03806060.4无效
发明人： N·F·伯雷利;G·B·哈里斯;C·M·史密斯 -专利权人：康宁股份有限公司
申请日： 2003-03-13 - 公布日： 2006-02-01 - 主分类号： C03C23/00 文献下载
摘要：本发明一般涉及UV(紫外)光敏玻璃块，具体地说，涉及可熔融碱金属硼－铝－硅酸盐玻璃和硅酸锗玻璃料。本发明光敏玻璃块对波长小于300nm的紫外光呈现光敏性。这种对波长小于300nm的紫外光呈现光敏性的碱金属硼－铝－硅酸盐和硅酸锗玻璃块可用来制作玻璃中折射率图案。利用波长小于300nm的辐射源，如激光器，在玻璃中生成折射率图案。本发明生成光敏折射率图案的玻璃块用来利用这类已有图案的玻璃生成玻璃和器件中的图案。
紫外光敏熔融玻璃

[发明专利]透镜阵列及制造这种透镜阵列和光敏玻璃板的方法-CN03823742.3无效
发明人： G·B·哈里斯;N·F·伯雷利;D·W·史密斯;P·G·N·雷欧 -专利权人：康宁股份有限公司
申请日： 2003-09-29 - 公布日： 2005-10-26 - 主分类号： C03C3/095 文献下载
摘要：本文描述一种透镜阵列及其制造方法。透镜阵列由含少量光敏剂(如银、金或它们的组合)的光敏玻璃板制成，当光敏玻璃板进行曝光步骤、热处理步骤和任选的离子交换步骤时，所述光敏玻璃板成为包含许多为透镜的玻璃区和至少一个在透镜周围的乳色区的玻璃复合板。所述透镜阵列具有透明无色的透镜，与进行同样的曝光、热处理和离子交换步骤的传统光敏玻璃板制成的透镜阵列中的黄色透镜相比，驰垂高度更大。
透镜阵列制造这种光敏玻璃板方法