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[发明专利]特别用于工业过程的激光源-CN201580051884.6有效
发明人： N.马格纳诺;M.加特蒂格里奥 -专利权人：康茂股份公司;普莱玛电子股份公司
申请日： 2015-09-22 - 公布日： 2020-01-17 - 主分类号： H01S3/00 文献下载
摘要：一种激光源，其包括：激光束生成单元（2），其包括用于生成第一激光束的一个或多个二极管激光源（20），所述光学放大单元（6）包括至少一个放大器模块（60），所述至少一个放大器模块（60）被适配成利用从由所述生成单元（2）发射的所述第一激光束导出的激光进行泵浦，并且被适配成在其输出处发射相对于来自所述生成单元（2）的所述第一激光束具有较高射束质量和较低功率值的第二激光束。在所述生成单元（2）和所述光学放大单元（6）之间，插入激光束变换和寻址光学单元（4），其包括光学路径选择器设备（43），所述光学路径选择器设备被适配成将来自所述生成单元（2）的所述第一激光束选择性地朝向第一光学线路（44）引导以用于在所述激光源（1）的第一出口（U1）处发射具有相对较高功率值和相对较低质量的激光束，或者朝向第二光学线路（45）引导以用于在所述激光源（1）的第二出口（U2）处生成对具有相对较低功率值和相对较高质量的激光束的发射。
特别用于工业过程激光