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[发明专利]用于使基座与驱动轴连接的装置-CN201980014128.4有效
发明人： T.W.巴斯特克;F.鲁达维特;M.普菲斯特雷尔 -专利权人：艾克斯特朗欧洲公司
申请日： 2019-01-22 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： C30B25/12 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于在驱动轴(40)上固定CVD反应器的基座(31)的装置，利用所述装置可以使所述基座(31)以旋转的方式移动。所述驱动轴(40)承载底板(3)，在所述底板(3)上固定承载板(2)，所述承载板(2)承载所述基座(31)。通过调节杠杆(16)可以调节所述承载板(2)相对于所述底板(3)的倾斜度。所述承载板(20)利用螺栓(8)与法兰元件(4)连接。利用塞件(46)封闭与所述螺栓(8)对准布置的贯穿开口(10)。
用于基座驱动连接装置

[发明专利]CVD反应器和清洁CVD反应器的方法-CN201780064475.9有效
发明人： M.科尔伯格;W.J.T.克鲁克肯;F.鲁达伊威特;M.德费尔;M.普菲斯特雷尔 -专利权人：艾克斯特朗欧洲公司
申请日： 2017-09-08 - 公布日： 2022-07-05 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明涉及一种清洁方法和CVD反应器，其具有用于把过程气体导入在过程室盖(19)和基座(2)之间布置的过程室(21)中的进气机构(1)，其中进气机构(1)包括至少一个金属组件(20)；至少一个会与过程气体发生接触尤其由不锈钢制成的金属表面。金属表面具有防止其表面金属组份由于一个或者多个反应气体而剥离的钝化层。冷却通道(14,17)被布置使得钝化层在清洁步骤时被加热最大至100℃的第二温度，在清洁步骤时氯气作为清洁气体被导入过程室(21)并且基座(2)被加热至至少700℃的第一温度，其中钝化层伴随有机金属化合物与金属表面的金属原子的化学反应构成，并且清洁气体入口(6)布置使得清洁气体与具有钝化层的金属表面发生接触。钝化层在调制步骤中产生，在调制步骤时在第一处理时长首先将有机金属化合物连同载体气一起输入过程室(21)中，接着在第二处理时长将空气与金属组件接触。
cvd 反应器清洁方法

[发明专利]用于封闭CVD反应器的内壳的装载开口的封闭元件-CN201880077822.6在审
发明人： M.科尔伯格;F.鲁达伊威特;M.普菲斯特雷尔 -专利权人：艾克斯特朗欧洲公司
申请日： 2018-10-02 - 公布日： 2020-07-14 - 主分类号： B01J3/03 文献下载
摘要：本发明涉及一种CVD反应器，其具有气密且能抽成真空的反应器壳体(1)和布置在所述反应器壳体(1)中的内壳(2)，所述内壳具有用于输送过程气体的器件(3、4)和用于固持在所述内壳中借助于过程气体待处理的基材(6)的器件(5)，其中，所述内壳(2)具有能被封闭元件(10)的密封元件(11)封闭的装载开口(7)，并且所述密封元件(11)在其封闭位置中以周围的密封区(10')贴靠在在内壳(2)的外侧上围绕装载开口(7)的配对密封区(7')上，其中，所述密封元件(11)围绕至少一条空间轴线(X、Y、Z)倾斜度可调地和/或可枢转运动地和/或沿空间轴线(X、Y、Z)之一可弹性偏离地固定在支架上。
用于封闭 cvd 反应器装载开口元件