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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]用于使用带电粒子多束波光刻系统制造独特芯片的方法和系统-CN201780068886.5有效
发明人： M·N·J·范科尔维克;V·S·凯伯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2017-09-08 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种使用无掩模光刻曝光系统诸如带电粒子多束波光刻系统(301A‑301D)创建电子器件诸如半导体芯片的方法。无掩模光刻曝光系统包括光刻子系统(316)，光刻子系统包括无掩模图案写入器诸如带电粒子多束波光刻机(1)或电子束机器。方法包括在将图案数据以流传送至无掩模图案写入器之前将独特芯片设计数据(430)或与独特芯片设计数据相关的信息引入至包括共用芯片设计数据的图案数据中。
用于使用带电粒子波光系统制造独特芯片方法

[发明专利]使用带电粒子多束波光刻系统制造独特芯片-CN202210050809.X在审
发明人： M·N·J·范科尔维克;V·S·凯伯;M·J-J·维兰德 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2017-09-08 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：使用无掩模光刻曝光系统制造电子器件的方法，无掩模光刻曝光系统使用无掩模图案写入器，其中生成用于控制无掩模图案写入器曝光晶片以用于创建电子器件的束波控制数据。基于设计版图数据和选择数据生成束波控制数据，设计版图数据定义适用于要从晶片制造的电子器件的多个结构(例如，过孔)，选择数据定义设计版图数据的哪些结构适用于要从晶片制造的每个电子器件，选择数据定义用于电子器件的不同子集的结构的不同集合。根据束波控制数据对晶片的曝光导致针对电子器件的不同子集曝光具有结构的不同集合的图案。
使用带电粒子波光系统制造独特芯片

[发明专利]使用带电粒子多束波光刻系统制造独特芯片-CN201780068908.8有效
发明人： M·N·J·范科尔维克;V·S·凯伯;M·J-J·维兰德 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2017-09-08 - 公布日： 2021-11-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：使用无掩模光刻曝光系统制造电子器件的方法，无掩模光刻曝光系统使用无掩模图案写入器，其中生成用于控制无掩模图案写入器曝光晶片以用于创建电子器件的束波控制数据。基于设计版图数据和选择数据生成束波控制数据，设计版图数据定义适用于要从晶片制造的电子器件的多个结构(例如，过孔)，选择数据定义设计版图数据的哪些结构适用于要从晶片制造的每个电子器件，选择数据定义用于电子器件的不同子集的结构的不同集合。根据束波控制数据对晶片的曝光导致针对电子器件的不同子集曝光具有结构的不同集合的图案。
使用带电粒子波光系统制造独特芯片

[发明专利]具有预定启动值的存储器件-CN201880065604.0在审
发明人： M·N·J·范科尔维克;M·J-J·维兰德 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-08-28 - 公布日： 2020-05-29 - 主分类号： H01L21/8244 文献下载
摘要：一种用于制造包括用于存储一个或多个数据值的多个存储器单元的半导体存储器件的方法，该方法包括：在晶片上曝光图案以产生用于半导体存储器件的多个存储器单元的结构，其中该图案是借助于一个或多个带电粒子束来曝光的；在图案的曝光期间改变一个或多个带电粒子束的曝光剂量以在至少一个存储器单元的一个或多个结构中生成一组一个或多个非共同特征，使得至少一个存储器单元的结构不同于半导体存储器件的其他存储器单元的对应结构。
具有预定启动存储器件

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