专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]作为甘氨酸摄取抑制剂、用于治疗精神病的1-苯甲酰基哌嗪衍生物-CN200480032874.X有效
  • D·阿尔贝拉蒂-贾尼;S·乔里顿;R·纳尔基齐昂;M·H·内蒂克温;R·D·诺可罗司;E·皮那德;H·思塔尔德尔 - 弗·哈夫曼-拉罗切有限公司
  • 2004-08-31 - 2006-12-13 - A61K31/496
  • 本发明涉及式(I)化合物,其中Ar是取代的芳基或者未取代或取代的含有一个、两个或三个氮原子的6-元杂芳基,其中该芳基和该杂芳基可以被一个或多个取代基取代,所述取代基选自羟基、卤素、CN、(C1-C6)-烷基、被卤素取代的(C1-C6)-烷基、(C1-C6)-烷氧基、被卤素取代的(C1-C6)-烷氧基、NR7R8、C(O)R9或SO2R10;R1是氢或(C1-C6)-烷基;R2是卤素、(C1-C6)-烷基、(C2-C6)-链烯基,其中氢原子可以被CN、C(O)-R9或(C1-C6)-烷基代替,或者是(C2-C6)-炔基、被卤素取代的(C1-C6)-烷基、-(CH2)n-(C3-C7)-环烃基、-(CH2)n-杂环烃基、-C(O)-R9、-(CH2)n-芳基或者含有一个、两个或三个选自氧、硫或氮的杂原子的-(CH2)n-5或6-元杂芳基,其中芳基、环烃基、杂环烃基和杂芳基是未取代的或者被一个或多个取代基取代,所述取代基选自羟基、卤素、(C1-C6)-烷基、被卤素取代的(C1-C6)-烷基或(C1-C6)-烷氧基;R3、R4和R6彼此独立地是氢、羟基、卤素、(C1-C6)-烷基或(C1-C6)-烷氧基;R5是NO2、CN、C(O)R9、SO2R10或NR11R12;R7和R8彼此独立地是氢或(C1-C6)-烷基;其他取代基如权利要求所定义;及其药学上可接受的酸加成盐,用于治疗精神病、疼痛、记忆与学习中的神经变性功能障碍、精神分裂症、痴呆和其他认知过程减损的疾病,例如注意缺陷性障碍或阿尔茨海默病。
  • 作为甘氨酸摄取抑制剂用于治疗精神病苯甲酰基哌嗪衍生物
  • [发明专利]作为腺苷受体配体的氨基三唑并吡啶衍生物-CN01822030.4无效
  • B·布罗德贝克;M·H·内蒂克温 - 弗·哈夫曼-拉罗切有限公司
  • 2001-12-07 - 2004-03-31 - C07D471/04
  • 本发明涉及通式I的化合物及其药学上可接受的盐,在式I中,R1为未取代的或被卤素或低级烷氧基取代的低级烷氧基、环烷基或芳基,或为-NR’R”,其中R’和R”相互独立地为氢、低级烷基、低级链烯基、低级炔基、-(CR2)n-芳基,它们是未取代的或是被1-3个选自卤素或低级烷氧基的取代基取代的,或者为-(CH2)n+1NR2、-(CH2)n-吡啶基、-(CH2)n-茚满基、-(CH2)n-环烷基、-(CH2)n-O-低级烷基、-(CH2)n-C(O)-NR2、-(CH2)n-CF3,或者R’和R”与它们所连接的N原子一起形成吡咯烷-1-基、哌啶-1-基、3,4-二氢-1H-异喹啉-2-基、吗啉基、氮杂环丁烷-1-基、3,6-二氢-2H-吡啶-1-基、硫代吗啉基、2,5-二氢-吡咯-1-基、噻唑烷-3-基、哌嗪基、氮杂环辛烷-1-基、氮杂环庚烷-1-基、八氢喹啉-1-基、八氢喹啉-2-基、1,3,4,9-四氢-b-咔啉-2-基,且这些环可以是未取代的或者是被1-3个选自下列的取代基取代的:低级烷基、苯基、苄基、吡啶基、-C(O)-NR2、-(CH2)n-O-低级烷基或-NR-(C(O)-低级烷基);R2为芳基或者为5元或6元杂芳基,其中的环是未取代的或者是被低级烷基、卤素、羟基或低级烷氧基取代的;X为键或-N(R)CH2-;R为氢或低级烷基;n为0、1、2、3、4、5或6。这些化合物与腺苷受体具有良好的亲和性,因此可以用于治疗与该受体有关的疾病。
  • 作为腺苷受体氨基吡啶衍生物
  • [发明专利]氨基-三唑并吡啶衍生物-CN00812501.5无效
  • G·休伯特罗逖曼;W·亨克勒;R·雅各布-劳特恩;G·J·基尔帕特里克;M·H·内蒂克温;C·里迈尔 - 弗·哈夫曼-拉罗切有限公司
  • 2000-08-28 - 2002-11-13 - C07D471/04
  • 本发明涉及式(I)化合物,其中R1是含有1至3个选自N、O或S的杂原子且任选被一个或两个取代基取代的5或6元杂芳基,取代基是低级烷基、-(CH2)nOH、卤素或低级烷氧基,其中该杂芳基可任选经由亚烷基或亚链烯基连接在吡唑环上,或者是任选被一个或两个取代基取代的苯基,取代基是低级烷基、羟基-低级烷基、卤素、羟基或低级烷氧基,或者是-O(CH2)n苯基、苯并呋喃基、吲哚基或苯并噻吩基,或者是-S-低级烷基;R2和R4彼此独立地是氢、氰基或-S(O)2-苯基;R3是氢、卤素,或者是含有1至3个选自N、O或S的杂原子且任选被一个或两个取代基取代的5或6元杂芳基,取代基是低级烷基、-(CH2)n-芳基、羟基、卤素、低级烷氧基、吗啉基、氨基、低级烷基氨基或-C(O)NR’2,其中R’是低级烷基或氢,或者是任选被一个或两个取代基取代的苯基,取代基是卤素、低级烷基、低级烷氧基、氨基、二低级烷基氨基、CF3、-OCF3、-NHC(O)低级烷基、氰基、-C(O)-低级烷基、-C(O)O-低级烷基、-S-低级烷基、-S(O)2NH-苯基、-S(O)2-甲基哌嗪基,或者是-NR’R”,其中R’和R”彼此独立地是氢、苯基环任选被卤素或低级烷氧基取代的-(CH2)n苯基、-CH(低级烷基)-苯基、二氢茚-1-基、1,2,3,4-四氢萘基或环烷基,或者是苯基环任选被卤素、低级烷基或低级烷氧基取代的-O-苯基、-O-四氢萘基或-O-CH2-6-甲基吡啶-2-基,或者是-苯并[1,3]二氧杂环戊基、-1H-吲哚-5-基、萘基、苯并呋喃-2-基、1,3,4,9-四氢-b-咔啉-2-基、哌啶-1-基、吡咯烷-1-基、哌嗪-4-基甲基或吗啉基;R5是-NR2,其中R可以相同或不同且是氢、低级烷基、苯基、苄基、-CO-低级烷基、-CO-低级烷氧基、-低级链烯基、-CO(CH2)n-苯基或-COO(CH2)n-苯基,其中苯基环任选被CF3、低级烷氧基、卤素或低级烷基取代,-CO(CH2)3-NHCO-低级烷氧基、-(CH2)n-苯基,其中苯基环任选被低级烷氧基、CF3或卤素取代,或者是4,5-二氢-1H-咪唑-2-基苯甲酸、1,4,5,6-四氢嘧啶-2-基苯甲酸或4,5,6,7,-四氢-1H-[1,3]二氮杂-2-基苯甲酸;n是0-4;及其可药用盐。
  • 氨基吡啶衍生物

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