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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]通过等离子体蚀刻的高折射率玻璃的图案化-CN201880015722.0有效
发明人： M·梅利;C·佩罗兹;V·辛格 -专利权人：奇跃公司
申请日： 2018-01-04 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： C03C3/078 文献下载
摘要：本文提供了用于在高折射率玻璃基板中形成例如用作波导的图案的等离子体蚀刻方法。该基板可以由具有大于或等于约1.65的折射率且具有小于约50wt％的SiO2的玻璃形成。等离子体蚀刻方法可以包括化学和物理蚀刻组分。在一些实施例中，等离子体蚀刻方法可以包括：在高折射率玻璃基板的至少一部分上形成图案化的掩模层，以及将掩模层和高折射率玻璃基板暴露于等离子体以从基板的暴露部分去除高折射率玻璃。随后从高折射率玻璃基板去除任何剩余的掩模层。玻璃的去除在高折射率玻璃基板中形成例如衍射光栅的期望的图案化结构。
通过等离子体蚀刻折射率玻璃图案

[发明专利]用于超表面的抗反射涂层-CN202310453821.X在审
发明人：林滇敏;M·A·克鲁格;P·圣西莱尔;M·梅利;C·佩罗兹;E·波利亚科夫 -专利权人：奇跃公司
申请日： 2018-01-24 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： G02B1/111 文献下载
摘要：本公开涉及用于超表面的抗反射涂层。在一些实施例中，超表面可以包括基板、位于其上的多个纳米结构以及设置在纳米结构之上的抗反射涂层。抗反射涂层可以是例如光致抗蚀剂层的透明聚合物并且可以具有比纳米结构的折射率低且比上覆介质(例如，空气)的折射率高的折射率。有利地，抗反射涂层可以减少或消除其中合并有超表面的增强现实显示器中的重影图像。
用于表面反射涂层

[发明专利]用于超表面的抗反射涂层-CN201880020962.X有效
发明人：林滇敏;M·A·克鲁格;P·圣西莱尔;M·梅利;C·佩罗兹;E·波利亚科夫 -专利权人：奇跃公司
申请日： 2018-01-24 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本文描述了用于超表面的抗反射涂层。在一些实施例中，超表面可以包括基板、位于其上的多个纳米结构以及设置在纳米结构之上的抗反射涂层。抗反射涂层可以是例如光致抗蚀剂层的透明聚合物并且可以具有比纳米结构的折射率低且比上覆介质(例如，空气)的折射率高的折射率。有利地，抗反射涂层可以减少或消除其中合并有超表面的增强现实显示器中的重影图像。
用于表面反射涂层

[发明专利]制造用于形成具有一体间隔件的目镜的模具的方法-CN202180017475.X在审
发明人： M·梅利;张杰;L·李;M·M·韦斯特;C·佩罗兹;A·卡巴斯;S·D·巴加特;B·G·希尔 -专利权人：奇跃公司
申请日： 2021-02-26 - 公布日： 2022-10-14 - 主分类号： B29C33/38 文献下载
摘要：公开了制造用于形成具有波导的目镜的模具的方法，该波导具有一体间隔件。模具通过使用湿法蚀刻或干法蚀刻将深孔(例如，5μm至1000μm深)蚀刻到基板中来形成。用于限定孔的蚀刻掩模可以由厚金属层和/或多层不同金属形成。抗蚀剂层可以被设置在蚀刻掩模之上。抗蚀剂层可以被图案化以形成孔的图案，该图案可以被转移到蚀刻掩模，并且蚀刻掩模可以用于将图案转移到下伏基板中。图案化的基板可用作模具，在该模具上可以引入可流动聚合物并使其硬化。孔中的硬化的聚合物可以形成一体间隔件。硬化的聚合物可以被从模具中去除以形成具有一体间隔件的波导。
制造用于形成具有一体间隔目镜模具方法

[发明专利]程序电子束光刻-CN202180016720.5在审
发明人： V·K·刘;M·梅利 -专利权人：奇跃公司
申请日： 2021-02-23 - 公布日： 2022-10-04 - 主分类号： G01B9/021 文献下载
摘要：程序EBL系统实现用户提供的oracle函数(例如，与特定图案相关联)以按需生成用于电子束驱动电子设备的控制指令。控制系统可以调用oracle函数来查询各个点位置(例如，各个x、y位置)处的图案，和/或例如它可以查询与由束和平台定位器正在寻址的当前场区相对应的区域上的图案。该程序EBL配置管理控制和图案生成，使得低级驱动电子设备和束柱可以保持不变，从而允许其利用现有的EBL技术。
程序电子束光刻

[发明专利]具有纳米级图案的液晶衍射设备及其制造方法-CN202210597668.3在审
发明人： C·奥;M·梅利;C·卑路斯;V·辛格;F·徐;M·A·克鲁格 -专利权人：奇跃公司
申请日： 2017-11-13 - 公布日： 2022-08-23 - 主分类号： G02F1/29 文献下载
摘要：一种光学设备包括液晶层，该液晶层具有以第一图案布置的第一多个液晶分子和以第二图案布置的第二多个液晶分子。第一和第二图案沿液晶层的纵向轴或横向轴彼此间隔开约20nm和约100nm的距离。第一和第二多个液晶分子被配置为可以重定向可见或红外波长的光的第一和第二光栅结构。
具有纳米图案液晶衍射设备及其制造方法

[发明专利]具有包括多种材料的光重定向结构的超表面以及制造方法-CN202080077937.2在审
发明人： M·梅利;M·霍拉萨尼内贾德;C·佩罗兹;P·圣西莱尔;林滇敏 -专利权人：奇跃公司
申请日： 2020-11-04 - 公布日： 2022-06-17 - 主分类号： G02B6/00 文献下载
摘要：显示装置包括具有超表面的波导作为耦入光学元件和/或耦出光学元件。超表面可以形成在波导的表面上并且可以包括多个亚波长尺度(例如，纳米尺度)突起或亚波长尺度突起的阵列。单独的突起可以包括可具有不同折射率的不同材料的水平和/或竖直层，从而允许增强对超表面的光重定向特性的操纵。材料的一些配置和组合可以有利地允许宽带超表面。本文所述的制造方法提供了具有期望配置或轮廓的不同材料的竖直和/或水平层。
具有包括多种材料定向结构表面以及制造方法

[发明专利]具有纳米级图案的液晶衍射设备及其制造方法-CN201780083577.5有效
发明人： C·奥;M·梅利;C·卑路斯;V·辛格;F·徐;M·A·克鲁格 -专利权人：奇跃公司
申请日： 2017-11-13 - 公布日： 2022-06-10 - 主分类号： G02F1/13 文献下载
摘要：一种光学设备包括液晶层，该液晶层具有以第一图案布置的第一多个液晶分子和以第二图案布置的第二多个液晶分子。第一和第二图案沿液晶层的纵向轴或横向轴彼此间隔开约20nm和约100nm的距离。第一和第二多个液晶分子被配置为可以重定向可见或红外波长的光的第一和第二光栅结构。
具有纳米图案液晶衍射设备及其制造方法

[发明专利]具有光吸收膜的波导及其形成方法-CN201880018167.7有效
发明人： M·梅利 -专利权人：奇跃公司
申请日： 2018-03-06 - 公布日： 2022-05-24 - 主分类号： G02B6/00 文献下载
摘要：在一些实施例中，显示装置包括一个或多个波导，所述一个或多个波导在波导的边缘上具有气相沉积的光吸收膜以减轻重影。在一些实施例中，通过诸如蒸发沉积工艺的气相沉积直接在波导的边缘上形成膜。在一些实施例中，光吸收膜可以包含碳，例如采用碳的一种或多种同素异形体形式的碳，诸如富勒烯，或者包含黑硅。
具有光吸收波导及其形成方法

[发明专利]用于重定向光的超表面和制造方法-CN202010181089.1有效
发明人： C·佩罗兹;M·梅利;林滇敏;E·波利亚科夫;P·圣西莱尔 -专利权人：奇跃公司
申请日： 2016-11-03 - 公布日： 2022-05-24 - 主分类号： G02B6/00 文献下载
摘要：本发明涉及用于重定向光的超表面和制造方法。一种显示系统包括具有由超表面形成的光内耦合光学元件或光外耦合光学元件的波导。该超表面是多层级(例如，双层级)结构，其具有通过由第一光学透射材料形成的间隔开的突起和突起之间的第二光学透射材料限定的第一层级。该超表面还包括由第二光学透射材料形成的第二层级。第一层级上的突起可以通过纳米压印第一光学透射材料来图案化，并且第二光学透射材料可以沉积在图案化的突起之上和之间。可以选择突起和突起之间的间隔的宽度来衍射光，并且突起的间距可以是10‑600nm。
用于定向表面制造方法

[发明专利]由具有不同取向的纳米梁的超表面形成的衍射光栅-CN202111203169.3在审
发明人：林滇敏;M·A·克鲁格;P·圣西莱尔;M·梅利;C·佩罗兹;E·波利亚科夫 -专利权人：奇跃公司
申请日： 2018-01-25 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：超表面提供头戴式显示器系统中的紧凑光学元件，以例如将光耦入或将光耦出波导。所述超表面可以由多个重复晶胞形成，每个晶胞包括在交叉方向上伸长的两组或两组以上纳米梁：在第一方向上伸长的一个或多个第一纳米梁和在第二方向上伸长的多个第二纳米梁。如在自顶而下视图中看到，所述第一方向可以沿着y轴，并且所述第二方向可以沿着x轴。所述晶胞可以具有10nm至1μm的范围内的周期性，包括10nm至500n或300nm至500nm。有利地，所述超表面提供在宽入射角范围上和对于具有圆偏振的入射光具有高衍射角和高衍射效率的光的衍射。
具有不同取向纳米表面形成衍射光栅

[发明专利]制造具有图案化基于锂的过渡金属氧化物的显示设备的方法-CN202080034640.8在审
发明人： M·梅利;C·佩罗兹;M·M·韦斯特 -专利权人：奇跃公司
申请日： 2020-03-11 - 公布日： 2021-12-17 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本公开一般地涉及显示系统，更具体地说，涉及增强现实显示系统及其制造方法。一种制造显示设备的方法包括提供包括锂(Li)基氧化物的基板以及形成暴露基板的区域的蚀刻掩模图案。该方法另外包括使用包含CHF3的气体混合物对基板的暴露区域进行等离子体蚀刻以形成衍射光学元件，其中所述衍射光学元件包括被配置为衍射入射在其上的可见光的Li基氧化物特征。
制造具有图案基于过渡金属氧化物显示设备方法

[发明专利]制作非均匀衍射光栅-CN201780061380.1有效
发明人： M·梅利;C·佩罗兹 -专利权人：奇跃公司
申请日： 2017-10-03 - 公布日： 2021-11-26 - 主分类号： G02B6/124 文献下载
摘要：一种制造非均匀光栅的方法包括：将不同密度的离子注入到基底的对应区域中；例如通过光刻来图案化位于基底上的抗蚀剂层；使用图案化的抗蚀剂层蚀刻基底；然后从基底去除抗蚀剂层，留下具有至少一个光栅的基底，该至少一个光栅具有与注入到所述区域中的不同离子密度相关的非均匀特性。该方法还可以包括使用具有光栅的基底作为模具来例如通过纳米压印光刻制造具有对应非均匀特性的对应光栅。
制作均匀衍射光栅

[发明专利]由具有不同取向的纳米梁的超表面形成的衍射光栅-CN201880021414.9有效
发明人：林滇敏;M·A·克鲁格;P·圣西莱尔;M·梅利;C·佩罗兹;E·波利亚科夫 -专利权人：奇跃公司
申请日： 2018-01-25 - 公布日： 2021-10-26 - 主分类号： G02B1/00 文献下载
摘要：超表面提供头戴式显示器系统中的紧凑光学元件，以例如将光耦入或将光耦出波导。所述超表面可以由多个重复晶胞形成，每个晶胞包括在交叉方向上伸长的两组或两组以上纳米梁：在第一方向上伸长的一个或多个第一纳米梁和在第二方向上伸长的多个第二纳米梁。如在自顶而下视图中看到，所述第一方向可以沿着y轴，并且所述第二方向可以沿着x轴。所述晶胞可以具有10nm至1μm的范围内的周期性，包括10nm至500n或300nm至500nm。有利地，所述超表面提供在宽入射角范围上和对于具有圆偏振的入射光具有高衍射角和高衍射效率的光的衍射。
具有不同取向纳米表面形成衍射光栅

[发明专利]具有用于重定向光的非对称光栅的超表面及其制造方法-CN202110788459.2在审
发明人：林滇敏;M·梅利;P·圣西莱尔;C·佩罗兹;E·Y·波利亚科夫 -专利权人：奇跃公司
申请日： 2017-05-05 - 公布日： 2021-10-08 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明涉及具有用于重定向光的非对称光栅的超表面及其制造方法。一种光学系统包括光学透射基板，光学透射基板包括超表面，超表面包括光栅，光栅包括多个单位基元。每个单位基元包括具有第一宽度的横向伸长的第一纳米梁；以及与第一纳米梁隔开一间隙的横向伸长的第二纳米梁，第二纳米梁具有大于第一宽度的第二宽度。单位基元的间距为10nm至1μm。第一和第二纳米梁的高度为：在基板的透射率大于3.3的情况下，10nm至450nm；以及在所述折射率为3.3或更小的情况下，10nm至1μm。
具有用于定向对称光栅表面及其制造方法

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