“L·C·乔里特斯马”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果3个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]工作台装置、光刻装置及器件制造方法-CN200610105861.1有效
发明人： E·R·卢普斯特拉;A·J·布利克;H·M·穆尔德;O·F·J·努尔德曼;T·F·森格斯;L·C·乔里特斯马;M·特伦特尔曼;G·斯特鲁特克 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2006-07-13 - 公布日： 2007-01-31 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：为了提高光刻装置的生产率，描述了一种用于保持两个构图部件的工作台装置。这些构图部件设置为图案沿扫描方向的间距对应于图案沿扫描方向的长度。通过这样做，可以通过用第一图案将第一管芯曝光、越过邻近第一管芯的第二管芯，并利用第二图案将邻近第二管芯的第三管芯曝光来进行改进的曝光顺序。
工作台装置光刻器件制造方法

[发明专利]光刻设备及器件制造方法-CN200510003548.2有效
发明人： P·A·J·蒂内曼斯;J·J·M·巴塞曼斯;L·C·乔里特斯马 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2005-12-23 - 公布日： 2006-07-05 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻设备包括投射系统和单独可控单元阵列，所述投射系统配置成将辐射束以子辐射束阵列的形式投射到衬底上；所述单独可控单元阵列配置成调制子辐射束。所述设备还包括包含至少一个数据变换装置的数据路径，所述数据变换装置配置成至少部分将确定所需图案的数据转换成适合于控制单独可控单元阵列的控制信号，以便在衬底上实际地形成所需图案。所述数据变换装置配置成通过把点扩展函数矩阵的伪反演形式应用于表示所需图案的列矢量来实现所述转换。点扩展函数矩阵包括有关每一个光点的点扩展函数的形状和相对位置的信息，所述光点在给定时间由子辐射束之一曝光在衬底上。
光刻设备器件制造方法