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[发明专利]膜片阀、阀部件和用于形成阀部件的方法-CN201910615040.X有效
发明人： J·舒格鲁 -专利权人： ASM IP控股有限公司
申请日： 2019-07-09 - 公布日： 2023-05-05 - 主分类号： F16K99/00 文献下载
摘要：公开一种膜片阀。所述膜片阀可以包含阀体，所述阀体包括阀通道，所述阀通道包含入口通道和出口通道。所述膜片阀还可以包含：阀座，其邻近于所述阀通道；及柔性膜片，其包括润湿表面和相对的非润湿表面，所述柔性膜片安置成邻近于所述阀通道。所述膜片阀还可以包含：柔性加热器，其安置在所述柔性膜片的所述非润湿表面上方；及阀致动器，其能够用于将所述柔性膜片的所述润湿表面移动到与所述阀座接触和不与所述阀座接触。还公开了包含柔性加热器的阀部件和用于形成此类阀部件的方法。
膜片部件用于形成方法

[发明专利]半导体晶片处理装置-CN201680087217.8有效
发明人： J·舒格鲁;卢西恩·C·希迪拉;克里斯·G·M·德里德 -专利权人：阿斯莫IP控股公司
申请日： 2016-05-27 - 公布日： 2021-11-23 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：一种空间原子层沉积装置(10)，包括具有喷头侧部(18)的喷头(16)，该喷头侧部具有中心、中心区域和圆周区域。该装置还包括具有基板支撑侧部的基座(12)，该基板支撑侧部平行于喷头侧部并与喷头侧部相对地延伸，以形成间隙。基座和喷头可围绕旋转轴线相对于彼此旋转。该装置具有多个可切换喷头部段。该装置还包括多个多通阀组件。每个可切换喷头部段与多个多通阀组件中的一个流体连接，以便将多个不同气体源中的选定的一个与一个可切换喷头部段流体连接。
半导体晶片处理装置