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[发明专利]包含缩醛和缩酮作为溶剂的光刻胶组合物-CN201110317143.1有效
发明人： S·F·瓦纳特;R·R·普拉斯;J·E·奥伯兰德;D·麦肯齐 -专利权人： AZ电子材料日本株式会社
申请日： 2003-03-28 - 公布日： 2012-06-27 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻胶组合物，其包含：a)至少一种选自线性酚醛清漆树脂和聚羟基苯乙烯的成膜树脂；b)至少一种光活性化合物或光酸产生剂；和c)包含至少一种选自缩醛和缩酮的溶剂的溶剂组合物。还公开了一种包含聚碳酸酯树脂和溶剂组合物的光刻胶组合物，所述溶剂组合物包含至少一种选自缩醛和缩酮的溶剂。还公开了一种用于将光刻胶组合物成像的方法，其包括如下步骤：a)用任何一种前述光刻胶组合物涂覆基材；b)烘烤基材以基本上去除溶剂；c)成像式照射光刻胶膜；和d)用合适的显影剂去除涂覆基材的成像式曝光或未曝光区域。
包含缩酮作为溶剂光刻组合

[发明专利]底部抗反射涂料组合物-CN200880113002.4无效
发明人： F·M·霍利亨;宫崎真治;M·O·奈塞尔;A·D·迪奥赛斯;J·E·奥伯兰德 -专利权人： AZ电子材料美国公司
申请日： 2008-10-21 - 公布日： 2010-09-15 - 主分类号： C07C55/02 文献下载
摘要：提供了可显影底部抗反射涂料组合物。
底部反射涂料组合

[发明专利]抗反射涂料组合物-CN200780025969.2无效
发明人： J·E·奥伯兰德 -专利权人： AZ电子材料美国公司
申请日： 2007-07-11 - 公布日： 2009-07-22 - 主分类号： G03F7/09 文献下载
摘要：本发明公开了具有减少的渗气的抗反射涂料组合物，该抗反射涂料组合物包含：(a)包含一种或多种官能团的聚合物，该官能团能够进行一种或多种选自共价键、离子键和氢键的相互作用；和(b)在加热时离解成组成部分的热酸产生剂，该组成部分能够进行一种或多种选自共价键、离子键和氢键的相互作用。
反射涂料组合

[发明专利]聚硅氨烷废料的处理-CN200780018042.6无效
发明人： J·戈曼;J·E·奥伯兰德;B·基克;T·卡尔 -专利权人： AZ电子材料美国公司
申请日： 2007-05-15 - 公布日： 2009-06-03 - 主分类号： C08J11/22 文献下载
摘要：本发明提供聚硅氨烷废料的处理方法。
聚硅氨烷废料处理

[发明专利]正性作用可光成像底部抗反射涂层-CN200810210008.5无效
发明人： J·E·奥伯兰德;R·R·达默尔;李丁术季;M·O·尼瑟尔;M·A·图卡伊 -专利权人： AZ电子材料日本株式会社
申请日： 2003-01-03 - 公布日： 2009-04-15 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明涉及一种新型的吸收性、可光成像并可水性显影的正性作用抗反射涂料组合物，该组合物包含光酸产生剂和聚合物，该聚合物包含至少一种具有酸不稳定基团的单元和至少一种具有吸收性生色团的单元。本发明进一步涉及使用这样的组合物的方法。本发明也涉及一种新型的吸收性、可光成像并可含水碱显影的正性作用抗反射涂料组合物，该组合物包含聚合物、染料和光酸产生剂，该聚合物包含至少一种具有酸不稳定基团的单元。本发明进一步涉及使用这样的组合物的方法。本发明也涉及一种新型的用正性光刻胶和新型可光成像并可水性显影的正性作用抗反射涂料组合物形成正像的方法，其中抗反射涂料包含聚合物，该聚合物包含酸不稳定基团。本发明进一步涉及这样的组合物。本发明也涉及用于将可光成像的抗反射涂料组合物成像的方法。
作用成像底部反射涂层

[发明专利]使用第一最小值底部抗反射涂层组合物制备图像的方法-CN200710101248.7无效
发明人： M·O·尼瑟尔;J·E·奥伯兰德;M·A·图卡伊;R·萨卡穆里;李丁术季 -专利权人： AZ电子材料日本株式会社
申请日： 2003-01-03 - 公布日： 2007-09-12 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明公开一种在衬底上形成图像的方法，其包括以下步骤：(a)在衬底上涂覆第一层辐射敏感性抗反射组合物；(b)将第二层光刻胶组合物涂覆到第一层抗反射组合物上；(c)选择性地将得自步骤(b)的涂覆衬底在光化辐射下曝光；和(d)将得自步骤(c)的经曝光的涂覆衬底显影以形成图像；其中，将光刻胶组合物和抗反射组合物都在步骤(c)中曝光；使用单一的显影剂在步骤(d)中将两者都显影；其中步骤(a)的抗反射组合物是第一最小值底部抗反射涂层(B.A.R.C.)组合物，具有的固含量最高至约8％固体分，并且涂覆衬底的最大涂层厚度为[λ/2n]，其中λ为步骤(c)中光化辐射的波长，且n为B.A.R.C.组合物的折射率。
使用第一最小值底部反射涂层组合制备图像方法

[发明专利]用于深UV的光刻胶组合物及其成像方法-CN200480013389.8无效
发明人：李相昊;D·M·拉曼;D·麦肯齐;金羽圭;M·帕德玛纳班;J·E·奥伯兰德;M·A·塔奇 -专利权人： AZ电子材料美国公司
申请日： 2004-05-07 - 公布日： 2006-06-21 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明涉及一种对深紫外区辐射敏感的新型光刻胶组合物，尤其在100－300nm范围内敏感的正性作用光刻胶，及其使用方法。光刻胶组合物包含：a)在含水碱性溶液中不可溶且包含至少一种酸不稳定性基团的聚合物，和进一步其中所述聚合物包含至少一种脂环族烃单元，至少一种环状酸酐，至少一种具有结构(1)的丙烯酸酯单元，和至少一种具有结构(2)的丙烯酸酯单元：其中，R’和R独立地是H或(C₁－C₄)烷基；R₁是侧向环状内酯，和，R₂是侧向非内酯脂族烃结构部分，b)能够在照射时产生酸的化合物或化合物混合物。本发明进一步涉及包含戊内酯的溶剂作为用于光敏材料的溶剂的用途。优选，溶剂是γ－戊内酯。该溶剂可与一种或多种另外的光刻胶溶剂混合。
用于 uv 光刻组合及其成像方法

[发明专利]光敏组合物及其用途-CN200480005372.8无效
发明人：庄弘;J·E·奥伯兰德;卢炳宏;S·F·万纳特;R·R·普拉斯 -专利权人： AZ电子材料美国公司
申请日： 2004-02-13 - 公布日： 2006-03-29 - 主分类号： G03F7/033 文献下载
摘要：提供了一种组合物，包括含有至少两个侧挂的不饱和基团的可光聚合的化合物；至少一种烯属不饱和可光聚合的聚环氧烷亲水性单体；至少一种非离子表面活性剂；和至少一种光引发剂。该组合物还优选含有至少一种胺改性的丙烯酸低聚体和一种染料。其他常规的光致抗蚀剂组分如光敏剂、粘合促进剂、均化剂和溶剂也可包括在组合物中。该组合物可用于在基材上形成一种图案，如在基材上构图微光刻电路。
光敏组合及其用途

[发明专利]包含缩醛和缩酮作为溶剂的光刻胶组合物-CN03808168.7无效
发明人： S·F·瓦纳特;R·R·普拉斯;J·E·奥伯兰德;D·麦肯齐 -专利权人： AZ电子材料日本株式会社
申请日： 2003-03-28 - 公布日： 2005-08-03 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻胶组合物，其包含：a)至少一种选自线性酚醛清漆树脂和聚羟基苯乙烯的成膜树脂；b)至少一种光活性化合物或光酸产生剂；和c)包含至少一种选自缩醛和缩酮的溶剂的溶剂组合物。还公开了一种包含聚碳酸酯树脂和溶剂组合物的光刻胶组合物，所述溶剂组合物包含至少一种选自缩醛和缩酮的溶剂。还公开了一种用于将光刻胶组合物成像的方法，其包括如下步骤：a)用任何一种前述光刻胶组合物涂覆基材；b)烘烤基材以基本上去除溶剂；c)成像式照射光刻胶膜；和d)用合适的显影剂去除涂覆基材的成像式曝光或未曝光区域。
包含缩酮作为溶剂光刻组合

[发明专利]负性作用可光成像底部抗反射涂层-CN03802097.1有效
发明人： J·E·奥伯兰德;R·R·达默尔;李丁术季;M·O·尼瑟尔;M·A·图卡伊 -专利权人：科莱恩金融(BVI)有限公司
申请日： 2003-01-07 - 公布日： 2005-05-11 - 主分类号： G03F7/09 文献下载
摘要：本发明涉及新型负性作用、可光成像且可水性显影的抗反射涂料组合物和它们的通过在反射衬底和光刻胶涂层之间形成此新型抗反射涂料组合物的薄层而用在图像处理中的用途。该负性、底部、可光成像的抗反射涂料组合物能够在碱性显影剂中显影且其涂覆在负性光刻胶的下方。
作用成像底部反射涂层

[发明专利]使用第一最小值底部抗反射涂层组合物制备图像的方法-CN03802091.2有效
发明人： M·O·尼瑟尔;J·E·奥伯兰德;M·A·图卡伊;R·萨卡穆里;李丁术季 -专利权人：科莱恩金融(BVI)有限公司
申请日： 2003-01-03 - 公布日： 2005-05-11 - 主分类号： G03F7/09 文献下载
摘要：本发明公开一种在衬底上形成图像的方法，其包括以下步骤：(a)在衬底上涂覆第一层辐射敏感性抗反射组合物；(b)将第二层光刻胶组合物涂覆到第一层抗反射组合物上；(c)选择性地将得自步骤(b)的涂覆衬底在光化辐射下曝光；和(d)将得自步骤(c)的经曝光的涂覆衬底显影以形成图像；其中，将光刻胶组合物和抗反射组合物都在步骤(c)中曝光；使用单一的显影剂在步骤(d)中将两者都显影；其中步骤(a)的抗反射组合物是第一最小值底部抗反射涂层(B.A.R.C.)组合物，具有的固含量最高至约8％固体分，并且涂覆衬底的最大涂层厚度为[λ/2n]，其中λ为步骤(c)中光化辐射的波长，且n为B.A.R.C.组合物的折射率。
使用第一最小值底部反射涂层组合制备图像方法

[发明专利]正性作用可光成像底部抗反射涂层-CN03802065.3有效
发明人： J·E·奥伯兰德;R·R·达默尔;李丁术季;M·O·尼瑟尔;M·A·图卡伊 -专利权人：科莱恩金融(BVI)有限公司
申请日： 2003-01-03 - 公布日： 2005-05-11 - 主分类号： C07D239/91 文献下载
摘要：本发明涉及一种新型的吸收性、可光成像并可水性显影的正性作用抗反射涂料组合物，该组合物包含光酸产生剂和聚合物，该聚合物包含至少一种具有酸不稳定基团的单元和至少一种具有吸收性生色团的单元。本发明进一步涉及使用这样的组合物的方法。本发明也涉及一种新型的吸收性、可光成像并可含水碱显影的正性作用抗反射涂料组合物，该组合物包含聚合物、染料和光酸产生剂，该聚合物包含至少一种具有酸不稳定基团的单元。本发明进一步涉及使用这样的组合物的方法。本发明也涉及一种新型的用正性光刻胶和新型可光成像并可水性显影的正性作用抗反射涂料组合物形成正像的方法，其中抗反射涂料包含聚合物，该聚合物包含酸不稳定基团。本发明进一步涉及这样的组合物。本发明也涉及用于将可光成像的抗反射涂料组合物成像的方法。
作用成像底部反射涂层

[发明专利]碱性水溶液中非离子型表面活性剂的浓度的测量方法-CN99803296.4无效
发明人： R·霍尔特;J·E·奥伯兰德;E·B·冈萨雷斯;P·L·兰克;M·F·Y·卡林达斯 -专利权人：克拉里安特国际有限公司
申请日： 1999-01-15 - 公布日： 2004-09-08 - 主分类号： G01N21/78 文献下载
摘要：本发明是精确测定碱性水溶液中非离子型表面活性剂浓度的方法。该方法包括：将表面活性剂萃取到有机溶剂中，分离溶剂，形成着色络合物，该络合物可以定量测定以给出表面活性剂的实际浓度。
碱性水溶液中非离子表面活性剂浓度测量方法

[发明专利]控制1,2－重氮基萘醌4－或5－磺酸酯粒度的方法-CN98812577.3无效
发明人： J·E·奥伯兰德 -专利权人：克拉里安特国际有限公司
申请日： 1998-12-10 - 公布日： 2004-03-17 - 主分类号： C07C303/44 文献下载
摘要：一种制备可用于光致抗蚀剂组合物的酚类化合物的1，2-重氮基萘醌4-或5-磺酸酯的方法，其中包括提供在有机极性溶剂中的1，2-重氮基萘醌4-或5-磺酸酯的溶液；将所得到的1，2-重氮基萘醌4-或5-磺酸酯溶液添加到温度保持在约0℃至约-30℃的沉淀浴中；和将所得到的1，2-重氮基萘醌4-或5-磺酸酯过滤。
控制重氮基萘醌磺酸酯粒度方法

[发明专利]制造光活性化合物以及由其制造光刻胶的方法-CN99803750.8无效
发明人： J·E·奥伯兰德 -专利权人：克拉里安特国际有限公司
申请日： 1999-01-20 - 公布日： 2001-04-25 - 主分类号： G03F7/022 文献下载
摘要：本发明提供用固体碱性催化剂,优选为阴离子交换树脂以制造高纯度光活性酯化合物的方法。本发明还提供制造包括这种光活性化合物、成膜树脂和溶剂组合物并使之成象的方法。
制造活性化合物以及光刻方法

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