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- [发明专利]用于在工作平面上产生激光线的设备-CN202180068847.1在审
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A·海梅斯;J·黑尔斯特恩;M·维默尔
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通快激光与系统工程有限公司
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2021-10-07
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2023-06-23
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B23K26/06
- 用于在工作平面(14)上产生激光线(12)的设备具有第一激光光源(16a)，所述第一激光光源设置用于产生第一激光原始射束(20a)。此外，该设备具有第二激光光源(16b)，所述第二激光光源设置用于产生第二激光原始射束(20b)。具有第一射束路径(32a)的光学组件(22)接收所述第一激光原始射束(20a)并且使所述第一激光原始射束沿着第一光轴(34a)变形成第一照射射束(24a)，所述第一照射射束具有第一焦散面(38a)和第一射束轮廓(40a)。所述光学组件(22)的第二射束路径(32b)接收所述第二激光原始射束(20b)并且使所述第二激光原始射束沿着第二光轴(34b)变形成第二照射射束(24b)，所述第二照射射束具有第二焦散面(38b)和第二射束轮廓(40b)。所述第一和所述第二照射射束(24a，24b)重叠地指向所述工作平面(14)并且如此定义共同的照射方向(18)。所述第一和所述第二射束轮廓(40a，40b)与所述共同的照射方向(18)垂直地分别具有长轴和短轴，所述长轴具有长轴射束宽度，所述短轴具有短轴射束宽度。所述第一和所述第二射束轮廓(40a，40b)共同地在所述工作平面(14)上形成激光线(12)。根据一方面，所述光学组件(22)设置用于使所述第一焦散面(38a)和所述第二焦散面(38b)在所述照射方向(18)上彼此错位地定位。
- 用于工作平面产生激光设备
- [发明专利]用于在工作平面上产生限定的激光线的设备-CN202180055422.7在审
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A·海梅斯;M·维默尔;J·黑尔斯特恩;M·施瓦茨
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通快激光与系统工程有限公司
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2021-08-03
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2023-04-28
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B23K26/06
- 一种用于在工作平面(14)上产生限定的激光线(12)的设备，该设备具有产生原始射束(18)的激光源(16)以及光学组件(20)，该光学组件接收原始射束并将其变形为照射工作平面的照射射束(22)。照射射束(22)限定与工作平面(14)相交的射束方向并且具有横向的射束轮廓(28)。射束轮廓(28)具有垂直于射束方向具有长轴射束宽度的长轴(30)和具有短轴射束宽度的短轴(32)。光学组件(20)具有多个光学元件(36，38，40)，这些光学元件将射束轮廓(28)聚焦于工作平面814)的区域中的限定位置(42)。限定位置(42)可能由于光学元件(36，38，40)取决于激光源(16)的运行功率和/或运行时间的升温而移位漂移长度(50)。射束轮廓(28)的短轴射束宽度沿射束方向变化并且在此限定可用的工艺窗口。光学组件(20)设置用于在射束方向上产生具有景深(46)的可用的工艺窗口，该景深大于漂移长度(50)。
- 用于工作平面产生限定激光设备
- [发明专利]加工光学器件、激光加工设备及激光加工方法-CN202180044682.4在审
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D·弗拉姆;J·黑尔斯特恩;J·克莱纳;M·库姆卡尔;M·舍费尔
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通快激光与系统工程有限公司
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2021-06-01
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2023-03-21
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B23K26/067
- 本发明涉及一种用于工件加工的加工光学器件(16)，该加工光学器件包括：偏振器装置(7)和聚焦光学器件(17)，该偏振器装置包括用于将尤其是脉冲式的至少一个输入激光束(3)分离为至少两个部分射束(5a，5b)的双折射偏振器元件(1a，1c)，这些部分射束分别具有两个不同偏振状态之一，该聚焦光学器件在射束路径中布置在该偏振器装置(7)后方，并且用于将部分射束(5a，5b)聚焦到至少两个聚焦区上，其中偏振器装置(7)具有至少一个另外的光学元件(8，13)，该至少一个另外的光学元件在射束路径中布置在该双折射偏振器元件(1a，1c)后方，并且用于改变部分射束(5a，5b)中的至少一个部分射束相对于加工光学器件(16)的光轴(6)的角度和/或间距。本发明还涉及一种包括这种加工光学器件(16)和用于产生激光束的激光源的激光加工设备，以及一种通过加工光学器件(16)对工件进行激光加工的方法。
- 加工光学器件激光设备方法
- [发明专利]光学布置和激光系统-CN202180032720.4在审
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T·策勒;C·蒂尔科恩;J·黑尔斯特恩;A·海梅斯;C·林格尔;C·伊里翁;M·延内
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通快激光与系统工程有限公司
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2021-03-29
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2022-12-16
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G02B27/09
- 本发明涉及一种用于将输入激光束(18)转换成线状的输出射束(12)的光学布置(20)，所述光学布置包括整形光学器件(24)，所述整形光学器件具有输入孔径和长形构造的输出孔径，所述输入激光束能够通过所述输入孔径入射，其中，所述整形光学器件如此构造，使得将通过所述输入孔径入射的输入激光束转换成通过所述输出孔径出射的射束包，所述射束包具有多个射束段，所述光学布置还包括均匀化光学器件(28)，所述均匀化光学器件有助于将所述射束包转换成所述线状的输出射束，其中，沿着线方向混合和叠加所述射束包的不同射束段，其中，设置有偏转光学器件(22)，所述偏转光学器件构造用于如此偏转所述输入激光束，使得时间相关地改变所述输入激光束在所述整形光学器件的输入孔径处的入射位置和/或入射方向。本发明还涉及一种用于产生线形的强度分布的激光系统(10)。
- 光学布置激光系统
- [发明专利]光学布置和激光系统-CN202180026532.0在审
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T·策勒;C·蒂尔科恩;J·黑尔斯特恩;A·海梅斯;C·林格尔;C·伊里翁
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通快激光与系统工程有限公司
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2021-03-23
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2022-11-22
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G02B27/09
- 本发明涉及一种用于将输入激光束(18)转换成线状的输出射束(12)的光学布置(20)，该光学布置包括整形光学器件(22)，该整形光学器件具有输入孔径(34)和输出孔径(36)，输入激光束能够通过该输入孔径入射，其中，整形光学器件构造用于，使得通过输入孔径入射的输入激光束(18)被转换成通过输出孔径(36)出射的、具有多个射束段的射束包(24)，该光学布置还包括均匀化光学器件(26)和至少一个变换透镜装置(30)，其中，均匀化光学器件构造用于，沿着线方向(x)混合射束包的不同射束段，其中，变换透镜装置(30)如此构造，使得混合射束段(28)被叠加以形成线状的输出射束，其中，均匀化光学器件包括第一透镜阵列以及在射束路径中连接在第一透镜阵列后方的第二透镜阵列，该光学布置还包括移位装置，移位装置构造用于，使第二透镜阵列相对于第一透镜阵列移位。
- 光学布置激光系统
- [发明专利]用于产生可变多焦点轮廓的光学装置-CN201980048148.3有效
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C·蒂尔科恩;D·弗拉姆;J·黑尔斯特恩;A·海梅斯;张力文;M·普罗索托维奇
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通快激光有限责任公司
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2019-07-18
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2022-10-18
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G02B3/00
- 一种用于由至少基本上准直的激光射束(3)产生多焦点轮廓(20)的光学装置(1)，其中，所述光学装置(1)具有射束路径(4)，依次穿过：多个微透镜阵列(MLA1至MLA4)，其中，所述微透镜阵列(MLA1至MLA4)的微透镜(5、5a、5b)具有统一的孔径a，其中，所述微透镜阵列(MLA1至MLA4)的整体(8)具有有效焦距fML；傅立叶透镜装置(6)，其特征在于，所述光学装置(1)具有调节机构(15)，借助所述调节机构能够调节所述射束路径(4)中所述微透镜阵列(MLA1至MLA4)中的至少若干的彼此之间的光学间距(d、d1、d2、t)，从而能够设定所述微透镜阵列(MLA1至MLA4)的整体(8)的有效焦距fML，并且所述调节机构(15)具有多个调节位置i＝l，...，其中，M是自然数≥2，i是调节位置索引，在所述调节位置处，项(公式(I)：)分别基本上平滑地得出自然数Ni，其中，λ是所述激光射束(3)的平均波长，fML,i是所述微透镜阵列(MLA1至MLA4)的整体(8)的通过所述调节位置i所设定的有效焦距FML。借助本发明能够以简单的方式改变由激光射束所产生的焦点的数量，其中，获得均匀的强度分布。
- 用于产生可变焦点轮廓光学装置
- [发明专利]用于贝塞尔射束加工光学器件的调整设备和方法-CN202080071399.6在审
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D·弗拉姆;J·克莱纳;J·黑尔斯特恩
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通快激光与系统工程有限公司
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2020-10-05
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2022-05-27
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B23K26/035
- 公开了一种用于调整激光加工机器(1)的加工光学器件(3)的设备(101)，其中，加工光学器件(3)构造用于在激光加工机器(1)中使激光束(5)成形并且沿着入射射束轴线(21)使激光束聚焦，使得加工激光束(5A)能够在待加工的工件(9)中构造预设的贝塞尔射束聚焦区(7)。该设备(101)包括：入射区域(104)，该入射区域用于接收加工激光束(5A)；聚焦区构造区域(106)，该聚焦区构造区域被提供用于使得能够借助于接收到的加工激光束(5A)沿着目标轴线(110)构造测量聚焦区(107)；以及成像单元(111)，该成像单元具有透镜(113)和探测器表面(115A)，其中，透镜(113)将测量激光辐射(105)成像到探测器表面(115A)上，该测量激光辐射在已经构造测量聚焦区(107)之后沿着由目标轴线(110)预给定的成像轴线(117)离开聚焦区构造区域(106)。
- 用于贝塞尔射束加工光学器件调整设备方法
- [发明专利]用于从光导纤维耦合输出辐射的设备、光导线缆和加工头-CN201880041092.4有效
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R·胡贝尔;S·富克斯;M·海泽尔;J·黑尔斯特恩;D·迈尔
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通快激光有限责任公司
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2018-06-04
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2022-04-15
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G02B6/26
- 本发明涉及一种用于从光导纤维(4)耦合输出辐射(2)的设备(1)，其包括：壳体(14)以及遮光器(5)，所述遮光器具有遮光器开口(6)，所述遮光器开口用于将从所述光导纤维(4)的耦合输出侧端部(3)耦合输出的辐射(2)的耦合输出角(α)限制在相对于所述遮光器开口(6)的中轴线(9)的最大耦合输出角(αM)上，其中，所述遮光器(5)布置在所述壳体(14)中。所述遮光器(5)具有由透明材料制成的遮光器本体(8)，其中，所述遮光器本体(8)具有第一全反射面(10)，所述第一全反射面用于对以比所述最大耦合输出角(αM)更大的耦合输出角(αG)从所述光导纤维(4)的耦合输出侧端部(3)耦合输出的辐射(2)进行反射，其中，所述遮光器本体(8)具有第二全反射面(11)，所述第二全反射面用于对与从所述耦合输出侧端部(3)耦合输出的辐射(2)反向地传播的、尤其从工件(22)反射回的辐射(15)进行反射。本发明也涉及一种光导线缆以及一种具有这样的设备(1)的加工头。
- 用于光导纤维耦合输出辐射设备导线工头
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