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[发明专利]产生用于投射曝光设备的可用输出光束的EUV光源-CN201380054067.7有效
发明人： I.桑格;M.莫尔;C.亨纳克斯;J.劳夫;D.克拉默 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2013-10-22 - 公布日： 2018-11-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种产生用于投射光刻的投射曝光设备(1)的EUV照明光的可用输出光束(3)的EUV光源(2)。该光源(2)具有产生EUV原始输出光束的EUV产生装置(2c)。该EUV原始输出光束为圆形偏振。为了设定可用输出光束(3)的偏振，相对于偏振方向，偏振设定装置(32；39)对原始输出光束具有线性偏振效果。这导致提供改进的输出光束以用于分辨率最优照明的EUV光源。
产生用于投射曝光设备可用输出光束 euv 光源

[发明专利]投射曝光设备的照明光学单元-CN201380013861.7有效
发明人： I.桑格 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2013-03-05 - 公布日： 2017-02-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种投射曝光设备的照明光学单元(25)，用于将照明光(16)引向照明场(5)，光刻掩模(7)可布置在照明场(5)中。第一分面反射镜(19)具有多个单独反射镜(26)，所述多个单独反射镜(26)提供将照明光部分束(16i)引向照明场(5)的照明通道。单独反射镜(26)各具有多层反射涂层。第二分面反射镜(20)在照明光(16)的光束路径中布置在第一分面反射镜(19)的下游。第二分面反射镜(20)的相应分面(35)连同第一分面反射镜(19)的单独反射镜(26)的至少一个一起使将照明光部分束(16i)引向照明场(5)的照明通道完整。单独反射镜(26)布置成使相应照明光部分束(16i)以入射角(I)入射于单独反射镜(26)上，由此限定入射平面。入射角(I)被预定成使入射平面中偏振的照明光(16)的反射率Rp与垂直于入射平面偏振的照明光(16)的反射率Rs之间的Rp/Rs比小于0.8。这导致照明可适用于在投射曝光期间获得最佳解析能力的照明光学单元。
投射曝光设备照明光学单元