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[发明专利]具有吸除剂层的发光半导体器件-CN201580010520.3有效
发明人： U.维奇曼恩;J.S.科布;A.P.恩格哈德特;H.梅恩奇;M.F.C.谢曼恩 -专利权人：皇家飞利浦有限公司
申请日： 2015-02-20 - 公布日： 2020-05-19 - 主分类号： H01S5/183 文献下载
摘要：本发明描述了一种发光半导体器件（100），包括衬底（120）、发光层结构（155）和用于减少发光层结构（155）中的杂质的AlGaAs吸气剂层（190），发光层结构（155）包括有源层（140）和变化的铝含量的层，其中包括铝的发光层结构（155）的层的生长条件与AlGaAs吸气剂层（190）的生长条件相比是不同的。AlGaAs吸气剂层（190）实现了沉积装备或生长反应器的气相中的比如硫等那样的杂质的浓度的降低。这样的杂质的减少降低了发光层结构（155）中可能影响发光半导体器件（100）的寿命的杂质的合并的概率。生长条件从组砷分压、氧分压、沉积温度、总沉积压力和铝的沉积速率中选择。本发明进一步涉及制造这样的发光半导体器件（100）的对应方法。
具有发光半导体器件

[发明专利]包括半导体光源的加热系统-CN201580004780.X有效
发明人： H.梅恩奇;G.H.德拉;S.格龙恩博恩;P.佩卡斯基;J.S.科布;R.G.康拉德斯 -专利权人：皇家飞利浦有限公司
申请日： 2015-01-09 - 公布日： 2020-03-20 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明描述了一种将物体（150,950）的加热表面（180）加热到至少100℃的处理温度的加热系统（100）和对应方法，其中所述加热系统（100）包括半导体光源（115），并且其中所述加热系统（100）被适配成用至少50个半导体光源（115）同时对加热表面（180）的面积元件进行加热。加热系统（100）可以是用于处理半导体结构的反应器的一部分。借助于半导体光源（115）发射的光在加热表面（180）处重叠。一个单个半导体光源（115）的特性的差异可以在加热表面（180）处被模糊，使得可能够实现例如跨晶片的处理表面的均匀温度分布。
包括半导体光源加热系统

[发明专利]激光打印系统-CN201480075736.3有效
发明人： R.G.康拉德斯;S.格龙恩博恩;G.赫斯勒;H.梅恩奇 -专利权人：皇家飞利浦有限公司
申请日： 2014-12-16 - 公布日： 2018-01-02 - 主分类号： B41J2/45 文献下载
摘要：本发明描述了用于照射在工作平面（180）中相对于激光打印系统（100）的激光模块移动的物体的激光打印系统（100）和相应的激光打印方法。该激光模块包括半导体激光器（115）的至少两个激光器阵列（110）和至少一个光学元件（170）。所述光学元件（170）被适配成对由激光器阵列（110）发射的激光进行成像，使得一个激光器阵列（110）的半导体激光器（115）的激光被成像到激光打印系统（100）的工作平面（180）中的一个像素并且像素的区域单元被借助于至少两个半导体激光器（115）进行照射。该光学元件不使每个单个半导体激光器（115）的激光投影或聚焦到工作平面（180），而是将整个激光器阵列成像到工作平面。由半导体激光器（115）发射的激光的重叠可改善照射或能量输入的均匀性和关于单个半导体激光器（115）的故障的可靠性。
激光打印系统

[发明专利]用于加热生物的加热系统-CN201380005813.3有效
发明人： H.梅恩奇;M.卡派 -专利权人：皇家飞利浦有限公司
申请日： 2013-01-17 - 公布日： 2017-12-19 - 主分类号： B60H1/00 文献下载
摘要：本发明涉及用于加热生物的加热系统，所述生物例如是在优选为混合动力汽车或者电动汽车的交通工具（1）内的人员（2）。加热系统包括用于利用红外激光照射生物从而加热生物的红外激光系统（5，6）。因此，使用具有高准直并且可以相对容易地聚焦的加热辐射。因此，加热可以局限于生物位于其中的某个区域。加热甚至可以仅局限于生物或者生物的部分。这种较为聚焦的加热允许能量消耗的减少。
用于加热生物系统

[发明专利]照明装置-CN201380020511.3有效
发明人： S.格朗恩博恩;H.梅恩奇 -专利权人：皇家飞利浦有限公司
申请日： 2013-04-12 - 公布日： 2017-03-15 - 主分类号： B23K26/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于提供用于加工物体的加工光的照明装置（10）。光源的组生成用于加工物体的光，其中光源的组被成像单元（16）成像到工作平面（17）上以用于产生加工光。结果得到的强度分布被配置使得如果强度分布在空间积分方向上被积分，则结果得到的积分强度分布具有强度下降，其中光源的组中的一个或数个可与光源的组中的另一个独立地控制以用于修改积分强度分布。这允许在加工装置中使用照明装置，使得与物体沿着其将被加工（特别地，将被密封）的加工线垂直地，物体能够被相对均匀地加工，从而改进加工物体的质量。
照明装置

[发明专利]用于垂直外部腔体表面发射激光器的光学元件-CN201180053163.0有效
发明人： S.格朗恩博恩;H.梅恩奇 -专利权人：皇家飞利浦电子股份有限公司
申请日： 2011-11-01 - 公布日： 2013-06-26 - 主分类号： H01S5/40 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于VECSEL或VECSEL阵列的光学元件。该光学元件由衬底(200)形成，该衬底至少在光学辐射的波长区域中是透明的。衬底(200)的第一界面包括一个或若干个弯曲区域，其形成集成在衬底(200)中的光学透镜或光学透镜阵列(220)的一部分。衬底(200)还包括一个或若干个光学反射镜(210)，其形成于衬底(200)的与第一界面相对的第二界面上或者嵌在衬底(200)中。光学反射镜(210)布置和设计成往回反射入射在第一或第二界面上的光学辐射的一部分。光学反射镜(210)是平坦反射镜，或者是曲率半径不同于弯曲区域(220)的曲率半径的弯曲反射镜。该光学元件允许制作具有高亮度的VECSEL或VECSEL阵列，而在制作期间不需要附加调整。VECSEL布置在距光学反射镜(210)一距离(L)处，且这等于外部腔体的程度。光学透镜的ROC可以选择为ROC=L/2，并且对于光学反射镜，ROC>L。腔体长度可以由单片分隔物(120)调整。
用于垂直外部体表发射激光器光学元件