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[发明专利]用于高感光的高分辨性I－谱线光致抗蚀剂的烷基磺酰肟化合物-CN97197557.4有效
发明人： K·迪特利克;M·昆兹;H·雅马托;C·德勒奥 -专利权人：西巴特殊化学品控股有限公司
申请日： 1997-08-22 - 公布日： 2004-01-07 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明公开了式1肟烷基磺酸酯化合物作为光敏酸产生体在可用碱性介质显影且对波长为340-390纳米的射线敏感的化学放大性光致抗蚀剂以及对上述波长范围适用的相应组成的正型和负型光致抗蚀剂中的应用其中R代表萘基，(2)或(3)；R0代表R1-X基团或R2；X代表直接连键，氧原子或硫原子；R1代表氢，C1-C4烷基或未取代的或被选自氯、溴、C1-C4烷基和C1-C4烷氧基的取代基所取代的苯基；R2代表氢或C1-C4烷基；且R3代表直链或支链C1-C12烷基，该烷基为未取代的或被一个或多个卤原子取代。∴
用于感光分辨谱线光致抗蚀剂烷基磺酰肟化合物

[发明专利]新的不饱和肟衍生物及其作为潜酸的用途-CN99809811.6有效
发明人： J·L·比尔鲍姆;T·阿萨库拉;H·雅马托 -专利权人：西巴特殊化学品控股有限公司
申请日： 1999-08-06 - 公布日： 2001-09-19 - 主分类号： C07C381/00 文献下载
摘要：式Ⅰ、Ⅱ或Ⅲ化合物其中m是0或1;n是1、2或3;R1尤其是未被取代或取代的苯基,或者萘基、蒽基、菲基、杂芳基,或C2－C12链烯基;R’1尤其是1,2－亚乙烯基、亚苯基、亚萘基、二亚苯基或氧二亚苯基;R2尤其是CN、C1－C4卤代烷基、C2－C6烷氧基羰基、苯氧基羰基或苯甲酰基;R3尤其是C1－C18烷基磺酰基、苯基－C1－C3烷基磺酰基、樟脑基磺酰基或苯磺酰基;R’3尤其是C2－C12亚烷基二磺酰基、亚苯基二磺酰基、亚萘基二磺酰基、二亚苯基二磺酰基或氧二亚苯基二磺酰基;R4和R5尤其是氢、卤素、C1－C8烷基、C1－C6烷氧基、C1－C4卤代烷基、CN、NO2、C2－C6链烷酰基、苯甲酰基、苯基、－S－苯基、OR6、SR9、NR7R8、C2－C6烷氧基羰基或苯氧基羰基;R6尤其是氢、苯基或C1－C12烷基;R7和R8尤其是氢或C1－C12烷基;R9尤其是C1－C12烷基;R10、R11和R12尤其是的C1－C6烷基或苯基;通过照射作为生成酸的化合物反应,因此适合于光致抗蚀剂的应用。
不饱和衍生物及其作为用途

[发明专利]用作潜在酸供体的碘鎓盐-CN00135494.9有效
发明人： R·舒尔兹;J·－L·比尔鲍姆;J·－P·沃尔夫;S·伊尔格;H·雅马托;T·阿萨库拉 -专利权人：西巴特殊化学品控股有限公司
申请日： 2000-12-20 - 公布日： 2001-08-01 - 主分类号： G03F7/029 文献下载
摘要：本发明公开了一种辐射致敏组合物,其含有(a1)阳离子或酸催化的可聚合或交联化合物,或(a2)在酸作用下在显影剂中增加其水溶性的化合物;和(b)至少一种如下式Ⅰ的二芳基碘鎓盐其中X、X1、YAˉ等定义在说明书中描述。其条件是在碘原子上的两个苯环是不相同取代的;它具有在高敏感性、高贮存稳定性、良好溶解性和低结晶趋势。
用作潜在供体碘鎓盐