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[发明专利]用于在显示器基板上形成滤光元件的方法、设备和系统-CN201610991752.8有效
发明人： G·罗森菲尔德;E·易里哲;G·D·佩雷格瑞姆;D·V·玛考林;G·西尔顿 -专利权人：伊英克公司
申请日： 2011-07-21 - 公布日： 2021-09-28 - 主分类号： G02F1/1335 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于在显示器基板上形成滤光元件的方法，所述方法包括：在与所述显示器基板相关的多个像素上选择性地沉积滤光材料以形成滤光元件；以及选择性地将被沉积的滤光材料暴露于激光热辐射以调节所述被沉积的滤光材料。本发明还公开了一种用于在显示器基板上形成滤光元件的数字成像系统，所述系统包括控制器，所述控制器可操作地被配置为使得所述数字成像系统：选择性地在与所述显示器基板相关的多个像素上沉积滤光材料以形成滤光元件；以及选择性地将被沉积的滤光材料暴露于激光热辐射以调节所述被沉积的滤光材料。
用于显示器基板上形成滤光元件方法设备系统

[发明专利]用于在显示器基板上形成滤光元件的方法、设备和系统-CN201180046382.6有效
发明人： G·罗森菲尔德;E·易里哲;G·D·佩雷格瑞姆;D·V·玛考林;G·西尔顿 -专利权人：伊英克公司
申请日： 2011-07-21 - 公布日： 2016-11-30 - 主分类号： G02F1/01 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于使用数字成像系统在多个显示器基板上形成滤光元件的方法和系统，所述数字成像系统可操作地在多个沉积位置处选择性地沉积滤光材料。所述方法包括接收取向信息，所述取向信息限定与至少一个显示器基板相关的多个像素的设置；在多个像素中识别将接收滤光材料的像素以在所述像素上形成滤光元件；根据取向信息在每个被识别的像素内选择沉积位置，从而满足与滤光元件在所述像素内的布置相关的对准标准；以及控制所述数字成像系统以使滤光材料沉积在被选择的所述沉积位置处。本发明还公开了一种用于在基板上形成滤光元件的方法和系统，其中包括在所述基板上选择接收滤光材料以形成滤光元件的位置；在所述滤光元件的布置中引入随机变量；以及在被选择的所述位置处形成滤光元件，所述基板随后被与显示器基板对准以形成显示器。本发明还公开了一种在显示器基板上形成滤光元件的方法和系统，其中包括在与所述显示器基板相关的多个像素上选择性地沉积滤光材料以形成滤光元件；以及将被沉积的滤光材料选择性地暴露于激光热辐射以调节所述被沉积的滤光材料。
用于显示器基板上形成滤光元件方法设备系统

[发明专利]调节成像系统的校准-CN201080021987.5有效
发明人： A·沃内斯;G·西尔顿 -专利权人：伊斯曼柯达公司
申请日： 2010-05-07 - 公布日： 2012-05-02 - 主分类号： H04N1/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种调节成像系统的校准以校正几何失真的装置(10)，包括：用于接收记录介质(17)的转动鼓；多个托架(18)，每个托架具有包含多个可寻址成像通道的成像头(16)；控制器，所述控制器被编程有查找表、解析关系或算法，所述查找表、解析关系或算法基于其他成像头的位置将对给定成像头的成像进行的校正调节相关联。本发明描述用于获得查找表、解析关系或算法的方法。该方法特别涉及大型成像系统。
调节成像系统校准

[发明专利]用多个成像头形成图像-CN200780029913.4无效
发明人： G·西尔顿;G·佩雷格赖姆 -专利权人：加拿大柯达图形通信公司
申请日： 2007-06-18 - 公布日： 2009-09-02 - 主分类号： B41M5/26 文献下载
摘要：在使用多通道成像头的成像系统领域中，在产品材料中存在由于单独的通道的射束密度的变化的原因而形成瑕疵的可能问题，所述瑕疵诸如针眼、条带效应、边缘不连续性。通过使用多个多通道头和使它们的扫描路径互连能够使视觉观察到的这些瑕疵最小化。通过使用第二多通道头和对使用组合了来自两个成像头的输出的成像路径对图案进行成像使由第一多通道头的不均匀特性所引起的图像的视觉可观察的变化最小化。
用多个成像形成图像

[发明专利]涂布非连续特征图案的方法和设备-CN200780024321.3有效
发明人： G·西尔顿 -专利权人：加拿大柯达图形通信公司
申请日： 2007-06-18 - 公布日： 2009-07-15 - 主分类号： B41M5/26 文献下载
摘要：一种能够在多通道成像头的一个通路中成像的非连续特征的图案，被分成非连续特征组。在多通道成像头的单次扫描期间单独地对每个非连续特征组进行成像。在所有组已经分别被成像之后，该图案能够被完全成像。一组的非连续特征可与这些组中的另一组的非连续特征交织。
涂布非连续特征图案方法设备

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