专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]产生掺杂剂气体物质的方法-CN200510132021.X无效
  • G·吕丁;S·萨托 - 应用材料有限公司
  • 2005-12-16 - 2006-07-26 - C30B31/06
  • 本发明涉及一种产生掺杂剂气体物质的方法以及实施该方法的离子源,该掺杂剂气体物质含有注入目标的所需掺杂剂元素成分。具体而言,虽然并不排他,但本发明涉及使用离子注入机,产生注入半导体晶片的掺杂剂离子。本发明提供产生掺杂剂气体物质的方法,该掺杂剂气体物质含有注入目标的所需掺杂剂元素成分,该方法包括:将掺杂剂元素成分源堆或块暴露于气态溴,使得溴与所述元素成分反应,形成反应产物,并离子化该反应产物,以产生掺杂剂气体物质的离子。
  • 产生掺杂气体物质方法

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