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[发明专利]流体处置系统和光刻设备-CN202080064265.1在审
发明人： T·W·波莱;K·斯蒂芬斯;R·范德含;G·彼得斯;E·H·E·C·奥姆梅伦;F·法尼 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2020-08-26 - 公布日： 2022-04-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：流体处置系统，用于润湿衬底的表面的由辐射束照射的区域。所述流体处置系统包括第一装置(112)，其被配置成将第一液体限制在该第一装置的至少一部分与衬底的表面之间的第一空间(111)中。该第一装置包括形成在其中的孔(10)以供使所述辐射束(B)传递通过以穿过第一液体照射该区域。该第一装置包括被配置成向第一空间提供第一液体的至少一个第一液体供应构件(20，23，34)、和被配置成从第一空间移除液体的至少一个提取构件(32)。流体处置系统还包括第二装置(200)，其包括被配置成向该第二装置的至少一部分与衬底的表面之间的第二空间(211)提供第二液体的至少一个第二液体供应构件(201)，其中在衬底的表面上在第二液体与第一液体之间存在间隙。流体处置系统被配置成向第二空间提供第二液体而不从第二空间移除任何液体以至少在该区域上形成液体层，且被配置成将第一液体和第二液体同时提供于衬底的表面上。
流体处置系统光刻设备

[发明专利]光刻设备、转移衬底的方法和器件制造方法-CN201911298755.3在审
发明人： A·A·范伯兹康;J·A·M·阿尔贝蒂;H·M·塞热;R·范德含;F·法尼;R·奥利斯拉格斯;G·彼得斯;C·M·诺普斯;P·范德艾登;P·范栋恩;B·威廉 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2015-05-12 - 公布日： 2020-03-31 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻设备包括：衬底台、曝光后处理模块、衬底处理机器人及干燥站。所述衬底台被配置成支撑衬底用于曝光过程。所述曝光后处理模块是用于在曝光后处理所述衬底。所述衬底处理机器人被配置成将所述衬底从所述衬底台沿着衬底卸载路径转移至所述曝光后处理模块中。所述干燥站被配置成从所述衬底的表面主动地移除液体。所述干燥站定位于所述衬底卸载路径中。所述干燥站定位于所述曝光后处理模组中。所述曝光后处理模块可以是晶片处理器。
光刻设备转移衬底方法器件制造

[发明专利]光刻设备、转移衬底的方法和器件制造方法-CN201580031670.2有效
发明人： A·A·范伯兹康;J·A·M·阿尔贝蒂;H·M·塞热;R·范德含;F·法尼;R·奥利斯拉格斯;G·彼得斯;C·M·诺普斯;P·范德艾登;P·范栋恩;B·威廉 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2015-05-12 - 公布日： 2020-01-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻设备包括：衬底台、曝光后处理模块、衬底处理机器人及干燥站。所述衬底台被配置成支撑衬底用于曝光过程。所述曝光后处理模块是用于在曝光后处理所述衬底。所述衬底处理机器人被配置成将所述衬底从所述衬底台沿着衬底卸载路径转移至所述曝光后处理模块中。所述干燥站被配置成从所述衬底的表面主动地移除液体。所述干燥站定位于所述衬底卸载路径中。所述干燥站定位于所述曝光后处理模组中。所述曝光后处理模块可以是晶片处理器。
光刻设备转移衬底方法器件制造