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[发明专利]控制图案化过程的方法、设备制造方法-CN202211006576.X在审
发明人： J·范唐根;E·G·麦克纳马拉;P·C·欣南;M·乔彻姆森 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-08-08 - 公布日： 2022-11-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：公开了控制图案化过程的方法。在一种布置中，获得从对穿过衬底上的结构的目标层的蚀刻路径中的倾斜的测量得到的倾斜数据。该倾斜表示蚀刻路径的方向与目标层的平面的垂直线偏离。倾斜数据被用于控制用于在另外的层中形成图案的图案化过程。
控制图案过程方法设备制造

[发明专利]控制图案化过程的方法、设备制造方法-CN201880060107.1有效
发明人： J·范唐根;E·G·麦克纳马拉;P·C·欣南;M·乔彻姆森 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-08-08 - 公布日： 2022-08-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：公开了控制图案化过程的方法。在一种布置中，获得从对穿过衬底上的结构的目标层的蚀刻路径中的倾斜的测量得到的倾斜数据。该倾斜表示蚀刻路径的方向与目标层的平面的垂直线偏离。倾斜数据被用于控制用于在另外的层中形成图案的图案化过程。
控制图案过程方法设备制造

[发明专利]用于确定图案化过程参数的方法-CN201880053049.X有效
发明人： A·齐亚托马斯;E·G·麦克纳马拉 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-07-31 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种方法包括：使用第一量测选配方案测量使用图案化过程处理的衬底上的量测目标的多个第一示例，以确定所述图案化过程的至少一个参数的值，所述第一量测选配方案用于将辐射施加到所述量测目标的示例并检测来自所述量测目标的示例的辐射；以及使用第二量测选配方案测量同一衬底上的量测目标的不同的多个第二示例，以确定所述图案化过程的至少一个参数的值，所述第二量测选配方案用于将辐射施加到所述量测目标的示例并检测来自所述量测目标的示例的辐射，其中，在将辐射施加到所述量测目标的示例并检测来自所述量测目标的示例的辐射的至少一个特性方面，所述第二量测选配方案与所述第一量测选配方案不同。
用于确定图案过程参数方法

[发明专利]用于确定图案化工艺的参数的方法和设备-CN201780027338.8有效
发明人： A·J·范李斯特;A·蔡亚马斯;P·C·欣南;E·G·麦克纳马拉;A·弗玛;T·希尤维斯;H·A·J·克拉默 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2017-03-01 - 公布日： 2021-12-07 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种确定图案化工艺的套刻的方法，该方法包括：用辐射光束照射衬底，使得所述衬底上的光束斑点被单位单元的一个或多个物理实例填充，所述单位单元在套刻的标称值下具有几何对称性；使用检测器检测由所述单位单元的所述一个或多个物理实例重定向的主要零阶辐射；以及由硬件计算机系统从检测到的辐射的光学特性值确定所述单位单元的套刻的非标称值。
用于确定图案化工参数方法设备

[发明专利]用于确定图案化工艺的参数的方法和设备-CN201780027339.2有效
发明人： A·J·范李斯特;A·特斯阿特马斯;P·C·欣南;E·G·麦克纳马拉;A·弗玛;T·希尤维斯;H·A·J·克拉默 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2017-03-01 - 公布日： 2021-10-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种确定图案化工艺的套刻的方法，该方法包括：获得检测到由单位单元的一个或多个物理实例重定向的辐射的表示，其中所述单位单元在套刻的标称值下具有几何对称性，并且其中通过用辐射光束照射衬底使得所述衬底上的光束斑点被所述单位单元的所述一个或多个物理实例填充来获得检测到的辐射的表示；以及由硬件计算机系统并且根据来自所述检测到的辐射的表示的光学特性值、与针对所述单位单元的第二套刻相分离地确定针对所述单位单元的第一套刻的值，所述第二套刻的值也从相同的光学特性值可获得，其中所述第一套刻处于与所述第二套刻不同的方向上，或者在与所述第二套刻不同的、所述单位单元的各部分的组合之间。
用于确定图案化工参数方法设备

[发明专利]获得测量的方法、用于执行过程步骤的设备和计量设备-CN202110819582.6在审
发明人： H·E·切克利;M·伊什巴士;W·J·M·范德文;W·S·C·罗洛夫斯;E·G·麦克纳马拉;R·拉赫曼;M·库珀斯;E·P·施密特-韦弗;E·H·A·戴尔维戈奈 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2017-04-21 - 公布日： 2021-10-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：在执行光刻过程步骤之前或之后，从衬底(W')上的位置获得测量。这种测量的示例包括在将图案应用到衬底之前进行的对准测量，以及在已经应用图案之后诸如套刻之类的性能参数的测量。从所有可能的测量位置(302)之中选择测量位置集合(606、606'或606”)。响应于使用初步选择的测量位置(610)所获得的测量，动态地选择(202c)所选测量位置的至少一个子集。高度的初步测量可以被用来选择用于对准的测量位置。在本公开的另一方面中，基于诸如高度测量或历史数据之类的补充数据来检测异常值测量。
获得测量方法用于执行过程步骤设备计量

[发明专利]用于确定图案化工艺的参数的方法和设备-CN201780027341.X有效
发明人： A·J·范李斯特;A·特斯阿特马斯;P·C·欣南;E·G·麦克纳马拉;A·弗玛;T·希尤维斯;H·A·J·克拉默;M·I·德拉富恩特瓦伦丁;K·范维特文;M·M·扎尔;王淑錦 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2017-03-01 - 公布日： 2021-08-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种量测目标包括：第一结构，被布置为由第一图案化工艺创建；和第二结构，被布置为由第二图案化工艺创建，其中所述第一结构和/或所述第二结构不被用来创建器件图案的功能方面，其中所述第一结构和所述第二结构一起形成单位单元的一个或多个实例，所述单位单元在标称物理配置下具有几何对称性，并且其中所述单位单元具有特征，所述特征由于所述第一图案化工艺、所述第二图案化工艺和/或另一图案化工艺中的图案放置的相对偏移而在与所述标称物理配置不同的物理配置下引起所述单位单元中的不对称性。
用于确定图案化工参数方法设备

[发明专利]获得测量的方法、用于执行过程步骤的设备和计量设备-CN201780029363.X有效
发明人： H·E·切克利;M·伊什巴士;W·J·M·范德文;W·S·C·罗洛夫斯;E·G·麦克纳马拉;R·拉赫曼;M·库珀斯;E·P·施密特-韦弗;E·H·A·戴尔维戈奈 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2017-04-21 - 公布日： 2021-08-06 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：在执行光刻过程步骤之前或之后，从衬底(W')上的位置获得测量。这种测量的示例包括在将图案应用到衬底之前进行的对准测量，以及在已经应用图案之后诸如套刻之类的性能参数的测量。从所有可能的测量位置(302)之中选择测量位置集合(606、606'或606”)。响应于使用初步选择的测量位置(610)所获得的测量，动态地选择(202c)所选测量位置的至少一个子集。高度的初步测量可以被用来选择用于对准的测量位置。在本公开的另一方面中，基于诸如高度测量或历史数据之类的补充数据来检测异常值测量。
获得测量方法用于执行过程步骤设备计量

[发明专利]量测方法、图案形成装置、设备和计算机程序-CN201980077503.X在审
发明人：周子理;N·潘迪;O·V·兹维尔;P·沃纳尔;M·范德沙尔;E·G·麦克纳马拉;A·J·登博夫;P·C·欣南;M·博兹库尔特;J·J·奥腾斯;K·布哈塔查里亚;M·库比斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2019-10-07 - 公布日： 2021-07-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：测量套刻的方法使用来自在衬底(W)上形成的一对子目标(1032，1034)上的位置(LOI)的多个非对称性测量。对于每个子目标，基于设计到子目标中的已知偏移变化，多个非对称性测量被拟合为非对称性与套刻之间的至少一个预期关系(1502，1504)。在一个示例中，通过变化顶部光栅和底部光栅的节距(P1/P2)，来提供连续的偏移变化。该对子目标之间的偏移变化相等并且相反(P2/P1)。套刻(OV)基于针对两个子目标的拟合关系之间的相对移动(xs)来被计算。将非对称性测量拟合为至少一个预期关系的步骤包括：完全或部分忽略偏离预期关系和/或落在拟合关系的特定段之外的测量(1506，1508，1510)。
方法图案形成装置设备计算机程序

[发明专利]用于测量光刻设备的聚焦性能的方法-CN201980066925.7在审
发明人： M·加西亚格兰达;E·G·麦克纳马拉;皮埃尔-伊夫·杰罗姆·伊万·吉泰;埃里克·若斯·安东·布劳威尔;B·P·B·西哥斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2019-09-25 - 公布日： 2021-05-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻设备将聚焦量测图案(T)印刷在衬底上，所印刷的图案至少包括特征的第一阵列(800)。该阵列内的任何部位处的特征限定至少在第一周期性方向(X)上重复的图案，而重复图案的几何参数(w1，w3)在整个所述阵列内变化。从该阵列的在部位的选定子集(ROI)处的测量结果导出聚焦测量结果。结果，聚焦性能的测量结果所基于的几何参数能够通过选择阵列内的部位而优化。减少或消除了对优化掩模版(MA)上的目标设计的几何参数的需求。所测量的属性可以是例如不对称的和/或具有衍射效率的。可以通过暗场成像拍摄用于所有部位的所测量的属性，并且在拍摄之后选择部位的子集。
用于测量光刻设备聚焦性能方法

[发明专利]用于确定图案化工艺的参数的方法和设备-CN201780027317.6有效
发明人： A·J·范李斯特;A·蔡亚马斯;P·C·欣南;E·G·麦克纳马拉;A·弗玛;T·希尤维斯;H·A·J·克拉默 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2017-03-01 - 公布日： 2021-03-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种确定图案化工艺的参数的方法，该方法包括：获得检测到的由在标称物理配置下具有几何对称性的结构重定向的辐射的表示，其中通过用辐射光束照射衬底使得所述衬底上的光束斑点被所述结构填充来获得检测到的辐射的表示；以及由硬件计算机系统基于来自所述检测到的辐射的表示中的不对称光学特性分布部分的光学特性值来确定所述图案化工艺的参数的值，所述检测到的辐射的表示中的不对称光学特性分布部分具有比所述检测到的辐射的表示中的另一部分更高的权重，所述不对称光学特性分布源自所述结构的与所述标称物理配置不同的物理配置。
用于确定图案化工参数方法设备

[发明专利]用于确定图案化工艺的参数的方法和设备-CN201780027336.9有效
发明人： A·J·范李斯特;A·蔡亚马斯;P·C·欣南;E·G·麦克纳马拉;A·弗玛;T·希尤维斯;H·A·J·克拉默 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2017-03-01 - 公布日： 2020-12-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种配置参数确定过程的方法，该方法包括：获得结构的数学模型，所述数学模型被配置为预测在用辐射光束照射所述结构时的光学响应，所述结构在标称物理配置下具有几何对称性；由硬件计算机系统使用所述数学模型来模拟所述结构的所述物理配置中的一定量的扰动，以确定多个像素中的每个像素中的所述光学响应的对应变化，从而获得多个像素灵敏度；以及基于所述像素灵敏度，确定多个权重，所述多个权重用于与衬底上的所述结构的经测量的像素光学特性值组合，以产生与所述物理配置中的变化相关联的参数的值，每个权重对应于一个像素。
用于确定图案化工参数方法设备

[发明专利]用于确定图案化过程参数的方法和设备-CN201880087554.6在审
发明人： A·齐亚托马斯;P·C·赫因恩;E·G·麦克纳马拉;T·希尤维斯;M·I·迪拉法伦特瓦伦丁;M·H·赛尔卓迪;A·J·登鲍埃夫;王淑锦 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-10-18 - 公布日： 2020-09-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种方法，所述方法包括：获得由来自衬底的多个结构中的每个结构重新引导的辐射的所检测的表示，所述衬底上另外具有器件图案，其中每个结构具有相应结构的与所述相应结构的相应名义实体配置相比有意不同的实体配置，其中每个结构在所述相应名义实体配置的情况下具有几何对称性，其中所述结构的有意不同的实体配置造成不对称光学特性分布，并且其中图案化过程参数测量所述实体配置的改变；和基于所检测的表示且基于有意不同的实体配置来确定值，以设置、监控或校正用于确定所述图案化过程参数的测量选配方案。
用于确定图案过程参数方法设备

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