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- [发明专利]光子计数探测器-CN201980051358.8在审
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R·斯特德曼布克;E·勒斯尔
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皇家飞利浦有限公司
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2019-08-01
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2021-03-23
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G01T1/24
- 本发明涉及一种光子计数探测器,所述光子计数探测器包括:第一直接转换层(10),其包括低吸收性直接转换材料(11)和第一电触点(12),所述低吸收性直接转换材料用于将撞击的高能电磁辐射(100)转换成第一计数信号;第二直接转换层(20),其包括高吸收性直接转换材料(21)和第二电触点(22),所述高吸收性直接转换材料用于将撞击的高能电磁辐射(100)转换成第二计数信号,所述高吸收性直接转换材料的吸收性比所述低吸收性直接转换材料的吸收性更高;以及载体层(30、30a、30b),其包括与所述第一电触点和所述第二电触点接触的第一端子(31)和第二端子(32)以及被配置为基于所述第一计数信号对所述第二计数信号校正误差的处理电路(35),其中,所述第一直接转换层和所述第二直接转换层被布置为使得所述高能电磁辐射在击中所述第二直接转换层之前透射所述第一直接转换层。
- 光子计数探测器
- [发明专利]光子计数探测器-CN201480069483.9有效
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E·勒斯尔;H·德尔;T·克勒
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皇家飞利浦有限公司
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2014-12-16
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2021-01-19
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A61B6/03
- 一种成像系统(100)包括具有焦斑(204)的辐射源(110),其发出贯穿检查区域(106)的X‑射线光子的射束。所述成像系统还包括光子计数探测器阵列(122),其探测贯穿检查区域的X‑射线光子的子集。所述成像系统还包括控制器(116),其响应于在预定强度水平以下的所发出的X‑射线光子的射束的强度的计算出的下降而生成和发射暂停信号,其令所述光子计数探测器阵列暂停探测所述X‑射线光子的所述子集。所述成像系统还包括计数器(136),其针对多个计数周期中的每个对在对应计数周期中由所述光子计数探测器阵列探测到的所述子集的所述X‑射线光子进行计数。
- 光子计数探测器
- [发明专利]辐射射束强度分布整形器-CN201380063535.7有效
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T·卡塔尔斯基;E·勒斯尔;R·莱文森
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皇家飞利浦有限公司
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2013-11-28
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2020-09-29
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A61B6/03
- 一种成像系统(500)包括:焦斑(510),其沿着围绕检查区域(506)的路径旋转并发出辐射;准直器(512),其对所述辐射进行准直,产生贯穿所述检查区域的视场(520)和其中的对象或目标的辐射射束(516);探测器阵列(522),其被定位为跨越所述检查区域与辐射源相对,所述探测器阵列探测贯穿所述视场的辐射并产生指示探测到的辐射的信号;以及射束整形器(524),其被定位在所述辐射源与所述准直器之间,所述射束整形器与所述焦斑协同地旋转并定义所述辐射射束的强度分布。所述射束整形器包括多个细长的X射线吸收元件(606),所述多个细长的X射线吸收元件被布置为沿着相对于射束的方向的贯穿方向平行于彼此,通过多个无材料区域(604)被彼此分开。
- 辐射强度分布整形
- [发明专利]X射线成像设备-CN201580039025.5有效
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T·克勒;E·勒斯尔
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皇家飞利浦有限公司
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2015-07-07
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2020-05-01
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A61B6/00
- 本发明涉及X射线成像。为了改进例如有关于相衬成像的灵活性,一种X射线成像设备(10)包括:X射线源布置,其用于提供X射线束(11);至少一个光栅(13、14);以及线探测器(15),其具有多条传感器线,所述多条传感器线中的每条由多个传感器元件提供,并且所述多条传感器线被提供用于探测在操作期间经过所述至少一个光栅的所述X射线束(11)的各自的部分。所述X射线成像设备被布置用于将所述线探测器(15)和要被成像的目标(21)相对于彼此移动,使得响应于所述X射线的所述部分,在所述线探测器和所述目标的各自的不同相对位置处能探测到多个干涉图案,以用于重建所述目标(21)的图像。所述至少一个光栅(13、14)包括被布置为在与所述线探测器(15)的方向垂直的方向上彼此邻近的至少一个第一节段(161)和至少一个第二节段(162)。所述X射线成像设备被布置用于将所述线探测器(15)和所述至少一个光栅相对于彼此至少在第一相对位置与第二相对位置之间移动,使得在所述第一相对位置中,所述X射线束(11)的部分在操作期间经过所述至少一个第一节段(161),同时所述至少一个第二节段(162)被布置在所述X射线束(11)的所述部分的外部;并且使得在所述第二相对位置中,所述X射线束(11)的所述部分在操作期间经过所述至少一个第二节段(162),同时所述至少一个第一节段(161)被布置在所述X射线束(11)的所述部分的外部。
- 射线成像设备
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