专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]可切换光栅-CN201980060755.1在审
  • R·斯特德曼布克;E·勒斯尔;D·J·费斯特格 - 皇家飞利浦有限公司
  • 2019-09-18 - 2021-04-23 - A61B6/00
  • 一种用于相衬成像的可切换光栅,包括贮存器,所述贮存器具有介质和X射线吸收颗粒,所述X射线吸收颗粒被声学地连接到第一超声生成器和第二超声生成器,所述第二超声生成器沿着所述贮存器的正交于第一侧的一侧进行布置。所述超声生成器各自被个体地或一起配置为生成具有频率和相位的声波,使得在所述介质内形成驻波,从而引起所述X射线吸收颗粒沿着所述驻波的压力节点进行组织。
  • 切换光栅
  • [发明专利]光子计数探测器-CN201980051358.8在审
  • R·斯特德曼布克;E·勒斯尔 - 皇家飞利浦有限公司
  • 2019-08-01 - 2021-03-23 - G01T1/24
  • 本发明涉及一种光子计数探测器,所述光子计数探测器包括:第一直接转换层(10),其包括低吸收性直接转换材料(11)和第一电触点(12),所述低吸收性直接转换材料用于将撞击的高能电磁辐射(100)转换成第一计数信号;第二直接转换层(20),其包括高吸收性直接转换材料(21)和第二电触点(22),所述高吸收性直接转换材料用于将撞击的高能电磁辐射(100)转换成第二计数信号,所述高吸收性直接转换材料的吸收性比所述低吸收性直接转换材料的吸收性更高;以及载体层(30、30a、30b),其包括与所述第一电触点和所述第二电触点接触的第一端子(31)和第二端子(32)以及被配置为基于所述第一计数信号对所述第二计数信号校正误差的处理电路(35),其中,所述第一直接转换层和所述第二直接转换层被布置为使得所述高能电磁辐射在击中所述第二直接转换层之前透射所述第一直接转换层。
  • 光子计数探测器
  • [发明专利]用于X射线相衬断层合成成像的探测器和成像系统-CN201580063910.7有效
  • E·勒斯尔 - 皇家飞利浦有限公司
  • 2015-11-17 - 2021-03-05 - A61B6/02
  • 本发明涉及用于X射线相衬断层合成成像的X射线探测器布置(10),用于X射线相衬断层合成成像的线探测器(1),用于X射线相衬断层合成成像的成像系统(24),用于X射线相衬断层合成成像的方法,以及用于控制这种布置的计算机程序元件和存储了这种计算机程序元件的计算机可读介质。所述X射线探测器布置(10)包括若干线探测器(1)。每个线探测器(1)被配置为在撞击这种线探测器(1)的X射线束(2)的至少一部分中探测莫尔图样。每个线探测器(1)包括若干探测器线(11),其中,每个线探测器(1)的宽度W等于莫尔图样的一个周期或整数倍的周期。
  • 用于射线断层合成成像探测器系统
  • [发明专利]用于校正能量依赖投影值的校正装置-CN201580072744.7有效
  • E·勒斯尔;I·M·布勒维;D·鲁宾;O·扎尔钦 - 皇家飞利浦有限公司
  • 2015-12-24 - 2021-02-26 - G06T11/00
  • 本发明涉及一种用于校正能量依赖投影值的校正装置。投影值提供单元(13)提供已在校准操作期间基于已穿过材料并且撞击在能量分辨检测器(6)上的辐射,针对a)所述辐射的强度已在所述校准操作中改变之后的不同时间、b)不同强度变化和c)不同材料和/或不同材料厚度生成的能量依赖校准投影值。瞬态行为确定和校正单元(12)基于所述能量依赖校准投影值来确定所述能量分辨检测器的瞬态行为,并且基于确定的所述瞬态行为来校正能量依赖实际投影值。校正后的所述能量依赖实际投影值较少受所述能量分辨检测器的瞬态行为的影响或完全不受所述能量分辨检测器的瞬态行为影响,由此改进所述能量依赖实际投影值的品质。
  • 用于校正能量依赖投影装置
  • [发明专利]源-检测器布置结构-CN201580060997.2有效
  • T·克勒;E·勒斯尔;R·K·O·贝林;P·B·T·诺埃尔;F·普法伊费尔 - 皇家飞利浦有限公司
  • 2015-11-10 - 2021-02-02 - A61B6/00
  • 本发明涉及用于光栅型相位衬度计算机断层扫描的X射线设备(10)的源‑检测器布置结构(11)。所述源‑检测器布置结构包括:X射线源(12),所述X射线源适于相对于对象(140)围绕旋转轴线(R)旋转移动并且适于发射呈线条图案(21)的相干或准相干辐射的X射线束;以及X射线检测系统(16),所述X射线检测系统包括第一光栅元件(24)和第二光栅元件(26)以及检测器元件(6);其中所述辐射的所述线条图案和所述光栅元件的光栅方向被布置成正交于所述旋转轴线;并且所述第一光栅元件具有依赖于所述X射线束的锥角(β)而变化的第一光栅节距和/或所述第二光栅元件具有依赖于所述X射线束的所述锥角而变化的第二光栅节距。
  • 检测器布置结构
  • [发明专利]光子计数探测器-CN201480069483.9有效
  • E·勒斯尔;H·德尔;T·克勒 - 皇家飞利浦有限公司
  • 2014-12-16 - 2021-01-19 - A61B6/03
  • 一种成像系统(100)包括具有焦斑(204)的辐射源(110),其发出贯穿检查区域(106)的X‑射线光子的射束。所述成像系统还包括光子计数探测器阵列(122),其探测贯穿检查区域的X‑射线光子的子集。所述成像系统还包括控制器(116),其响应于在预定强度水平以下的所发出的X‑射线光子的射束的强度的计算出的下降而生成和发射暂停信号,其令所述光子计数探测器阵列暂停探测所述X‑射线光子的所述子集。所述成像系统还包括计数器(136),其针对多个计数周期中的每个对在对应计数周期中由所述光子计数探测器阵列探测到的所述子集的所述X‑射线光子进行计数。
  • 光子计数探测器
  • [发明专利]辐射射束强度分布整形器-CN201380063535.7有效
  • T·卡塔尔斯基;E·勒斯尔;R·莱文森 - 皇家飞利浦有限公司
  • 2013-11-28 - 2020-09-29 - A61B6/03
  • 一种成像系统(500)包括:焦斑(510),其沿着围绕检查区域(506)的路径旋转并发出辐射;准直器(512),其对所述辐射进行准直,产生贯穿所述检查区域的视场(520)和其中的对象或目标的辐射射束(516);探测器阵列(522),其被定位为跨越所述检查区域与辐射源相对,所述探测器阵列探测贯穿所述视场的辐射并产生指示探测到的辐射的信号;以及射束整形器(524),其被定位在所述辐射源与所述准直器之间,所述射束整形器与所述焦斑协同地旋转并定义所述辐射射束的强度分布。所述射束整形器包括多个细长的X射线吸收元件(606),所述多个细长的X射线吸收元件被布置为沿着相对于射束的方向的贯穿方向平行于彼此,通过多个无材料区域(604)被彼此分开。
  • 辐射强度分布整形
  • [发明专利]X射线成像设备-CN201580039025.5有效
  • T·克勒;E·勒斯尔 - 皇家飞利浦有限公司
  • 2015-07-07 - 2020-05-01 - A61B6/00
  • 本发明涉及X射线成像。为了改进例如有关于相衬成像的灵活性,一种X射线成像设备(10)包括:X射线源布置,其用于提供X射线束(11);至少一个光栅(13、14);以及线探测器(15),其具有多条传感器线,所述多条传感器线中的每条由多个传感器元件提供,并且所述多条传感器线被提供用于探测在操作期间经过所述至少一个光栅的所述X射线束(11)的各自的部分。所述X射线成像设备被布置用于将所述线探测器(15)和要被成像的目标(21)相对于彼此移动,使得响应于所述X射线的所述部分,在所述线探测器和所述目标的各自的不同相对位置处能探测到多个干涉图案,以用于重建所述目标(21)的图像。所述至少一个光栅(13、14)包括被布置为在与所述线探测器(15)的方向垂直的方向上彼此邻近的至少一个第一节段(161)和至少一个第二节段(162)。所述X射线成像设备被布置用于将所述线探测器(15)和所述至少一个光栅相对于彼此至少在第一相对位置与第二相对位置之间移动,使得在所述第一相对位置中,所述X射线束(11)的部分在操作期间经过所述至少一个第一节段(161),同时所述至少一个第二节段(162)被布置在所述X射线束(11)的所述部分的外部;并且使得在所述第二相对位置中,所述X射线束(11)的所述部分在操作期间经过所述至少一个第二节段(162),同时所述至少一个第一节段(161)被布置在所述X射线束(11)的所述部分的外部。
  • 射线成像设备
  • [发明专利]X射线成像数据处理设备和方法-CN201880002656.3有效
  • M·巴特尔斯;T·克勒;E·勒斯尔 - 皇家飞利浦有限公司
  • 2018-03-23 - 2020-02-21 - A61B6/00
  • 本发明涉及处理X射线成像数据,特别是相衬X射线成像数据,并且通过利用光谱信息解决与例如基于光栅的差分相衬成像中的振动相关联的问题。已经认识到可以利用光谱信息来基于多能量分箱X射线探测器、振动引起的莫尔图案相移的能量独立性、物体引起的莫尔图案相移的能量依赖性以及被设计为允许测量物体根据能量分箱引起的相移的依赖性的体模来确定莫尔图案的振动状态。特别地,发现通过适当的数据处理,能够从物体属性中解脱出振动引起的移位等,因此减少了图像中的振动伪影,同时并不特别需要改变成像设备的基本物理结构。
  • 射线成像数据处理设备方法
  • [发明专利]用于对X射线图像中的结构进行计算机辅助探测的方法和X射线系统-CN201480017074.4有效
  • J·E·弗雷登贝里;M·V·伦德奎斯特;E·勒斯尔;K·埃哈德;T·克勒;B·塞德斯特伦;H-I·马克 - 皇家飞利浦有限公司
  • 2014-02-20 - 2019-11-15 - G06T5/50
  • 本发明涉及X射线成像技术以及图像后处理。具体而言,本发明涉及一种用于对X射线图像中的结构进行计算机辅助探测的方法以及X射线系统。计算机辅助探测算法视觉上确定X射线图像信息中的组织结构,并且随后将经确定的组织结构的形状与已知组织结构的库匹配,以表征经确定的组织结构的类型。当还采用谱信息(尤其是采集的X射线图像的能量信息)时,组织结构的确定并且因此组织结构的类型的表征可以被增强。相应地,提出了一种用于对结构和X射线图像进行计算机辅助探测的方法(70、80、90),包括以下步骤:获得(72)对象的谱X射线图像信息,其中,所述谱X射线图像信息构成至少一幅X射线图像,通过采用计算机辅助探测算法来探测(74)所述X射线图像中的感兴趣组织结构,其中,探测所述X射线图像中的感兴趣组织结构包括使所述计算机辅助探测算法适于针对组织结构形状来对所述X射线图像进行评估,并且将所述组织结构形状与多个预定的组织结构形状进行比较,并且其中,所述计算机辅助探测算法适于评估所述X射线图像的谱信息以探测所述感兴趣组织结构。
  • 用于射线图像中的结构进行计算机辅助探测方法系统

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