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[发明专利]EUV光刻装置的照明系统及其分面反射镜-CN201480009868.6有效
发明人： J.劳夫;I.萨恩格;J.齐默尔曼;D.克雷默;C.亨纳克斯;F.施莱塞纳 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2014-02-11 - 公布日： 2017-07-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及EUV光刻装置(1)的照明系统(10)，包含第一分面反射镜(13)，具有反射EUV辐射(4)的分面元件(13a‑d)；以及第二分面反射镜(14)，具有反射由第一分面反射镜(13)反射的EUV辐射(4)至照明场(BF)的分面元件(14a‑d)。第一分面反射镜(13)或所述第二分面反射镜(14)的分面元件(13a‑d，14a，14c；14b，14d)的至少之一设计为衍射光学元件，用于衍射所述EUV辐射(4)。尤其，第二分面反射镜(14)的分面元件(14a，14c；14b，14d)的至少之一设计为衍射光学元件(14a，14c；14b，14d)，用于仅照明照明场的部分。本发明还涉及包含这种照明系统(10)的EUV光刻装置(1)，以及包含至少一个衍射分面元件(13a‑d，14a‑d)的分面反射镜(13，14)。
euv 光刻装置照明系统及其反射

[发明专利]参数化间隔控制设备和/或保护设备的方法和装置-CN201610251496.9在审
发明人： M.乔乔尔;D.克雷默;J.穆勒;M.瓦赫 -专利权人：西门子公司
申请日： 2016-04-21 - 公布日： 2016-11-02 - 主分类号： H02B1/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种参数化开关布置的间隔控制和/或保护设备的方法和布置。用于自动将开关布置的间隔控制设备和/或保护设备参数化的方法包括步骤：根据拓扑结构信息自动识别开关布置的拓扑结构，并且根据拓扑结构自动确定用于至少一个设备的闭锁条件和/或释放条件；在考虑针对该设备确定的闭锁条件和/或释放条件的条件下自动说明用于至少一个设备的通信连接；利用针对该设备确定的闭锁条件和/或释放条件以及通信连接和拓扑结构，将至少一个设备参数化，从而在开关布置运行时，能够控制在至少一个设备中的开关动作的闭锁或释放。此外，本发明涉及一种用于自动将开关布置的间隔控制设备和/或保护设备参数化的布置。
参数间隔控制设备保护方法装置