专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]装置和方法-CN201280026420.6无效
  • C·洛;A·史蒂文森;K·萨尔马;D·J·奥尼尔 - 速博无线有限公司
  • 2012-03-29 - 2014-04-02 - H01Q1/36
  • 本发明涉及电声天线。本发明描述了一种电磁波天线,该天线包括:压电材料条,该压电材料条具有长度和垂直于所述长度的横截面,其中所述长度是所述条的所述横截面的横向尺寸的至少5倍;第一电极和第二电极,所述第一电极和所述第二电极布置在所述压电材料条上并沿着所述条的所述长度被隔开;以及其中所述压电材料条在沿着所述条的所述长度的纵向方向上具有固有的偏振性。
  • 装置方法
  • [发明专利]制造薄闭合磁头的方法-CN200810214665.7有效
  • R·G·比斯克博恩;C·洛 - 国际商业机器公司
  • 2008-09-01 - 2009-03-04 - G11B5/265
  • 本发明提供一种制造薄闭合读/写磁头诸如磁带磁头的方法。该方法提供闭合的改良的挠曲强度,从而减轻在磁头的制造期间的闭合破坏,并减小闭合厚度。在晶片上制造芯片阵列。利用接合到阵列的每个行的闭合条,封闭该阵列。闭合仅横跨行的长度,因此该闭合在处理期间不经受弯曲,并减轻由弯曲引起的破坏。将侧板接合到该阵列,以形成尺寸与现有技术的列相似的列。这允许本发明所制造的列经历利用现有工艺的附加处理。
  • 制造闭合磁头方法
  • [发明专利]作为TNF抑制剂和PDC-IV抑制剂的喹啉甲酰胺类化合物-CN97194735.X无效
  • H·J·戴克;J·G·蒙塔那;C·洛;H·J·肯达尔;V·M·萨宾 - 达尔文发现有限公司
  • 1997-05-20 - 2004-05-05 - A61K31/47
  • 通式(i)化合物,其中X是CO或CS;R是H,卤素或烷基;R1代表OH,任意被一个或多个卤素取代的烷氧基,或烷硫基;R2,R3和R4相同或不同并且分别为H,R7,OR11,COR7,C(=NOR7)R7,烷基-C(=NOR7)R7,卤素,CF3,烷基-C(=NOH)R7,C(=NOH)R7,CN,CO2H,CO2R11,CONH2,CONHR7,CON(R7)2,NR9R10或CONR12R13,其中NR12R13是任意被一个或多个R15取代的杂环;R5代表H,芳烷基,杂芳基烷基,杂环基烷基,S(O)mR11或被一个或多个选自羟基,烷氧基,CO2R8,SO2NR12R13,CONR12R13,CN,羰基,NR9R10,COR11和S(O)nR11取代的烷基;R6代表芳基,杂芳基,杂环基,芳烷基,杂芳基烷基或杂环基烷基;在R5和/或R6中,芳基/杂芳基/杂环基部分任意被一个或多个取代基烷基-R14或R14取代。该化合物可用来治疗疾病,例如,与介导细胞活性的蛋白质相关的疾病,例如,通过抑制肿瘤坏死因子和/或抑制磷酸二酯酶IV。∴
  • 作为tnf抑制剂pdciv喹啉甲酰胺化合物
  • [发明专利]苯并呋喃甲酰胺及其治疗用途-CN97194736.8无效
  • H·J·戴克;C·洛;J·G·蒙塔那;H·J·肯达尔;V·M·萨宾 - 达尔文发现有限公司
  • 1997-05-20 - 1999-06-09 - C07D307/79
  • 一种通式(i)的化合物,其中Z为CO或CS;R1代表可选被一或多个卤素、OH或硫代烷基取代的烷氧基;R2与R3相同或不同,每个为H、R6、OR10、COR6、C(=NOR6)R6、烷基-C(=NOR6)R6、烷基-C(=NOH)R6、C(=NOH)R6、卤素、NR8R9、CF3、CN、CO2H、CO2R10、CONH2、CONHR6或CON(R6)2;R4代表H、芳烷基、杂芳烷基、杂环烷基、S(O)mR10或可选被一或多个取代基取代的烷基,取代基选自羟基、烷氧基、CO2R7、SO2NR11R12、CONR11R12、CN、羰基氧、NR8R9、COR10和S(O)nR10;R5代表芳基、杂芳基、杂环、芳烷基、杂芳烷基或杂环烷基;在R4和/或R5中,该芳基/杂芳基/杂环部分可选被一或多个烷基-R13或R13取代基取代;R6代表可选在任意位置被R14取代的R10;R7代表H、烷基、环烷基、芳烷基、杂芳烷基或杂环烷基;R8代表H、芳基、杂芳基、杂环、烷基、环烷基、芳烷基、杂芳烷基、杂环烷基、烷基羰基、烷氧基羰基、芳基磺酰、杂芳基磺酰、杂环磺酰、芳基羰基、杂芳基羰基、杂环羰基或烷基磺酰;R10代表烷基、环烷基、芳基、杂芳基、杂环、芳烷基、杂芳烷基或杂环烷基;R9、R11和R12相同或不同,每个为H或R10;R13代表可选被卤素取代的烷基、可选被卤素取代的烷氧基、芳基、杂芳基、杂环、羟基、芳氧基、杂芳氧基、杂环氧基、芳基烷氧基、杂芳基烷氧基、杂环烷氧基、CO2R7、CONR11R12、SO2NR11R12、卤素、-CN、-NR8R9、COR10、S(O)nR10或羰基氧;R14代表OH、OR10、羰基氧、NR8R9、CN、CO2H、CO2R10、CONR11R12或COR10;m为一个至多为2的整数;n代表0-2;或其药学上可接受的盐。
  • 呋喃甲酰胺及其治疗用途

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