专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]监测光刻过程的方法和相关设备-CN202180086366.3在审
  • H·A·范拉霍文;A·维尔马;R·阿努恩西亚多;H·A·迪伦;S·C·T·范德山登 - ASML荷兰有限公司
  • 2021-12-06 - 2023-08-22 - H01L21/66
  • 披露了一种监测半导体制造过程的方法。所述方法包括获得能够进行操作以从高分辨率量测数据导出局部性能参数数据的至少一个第一经训练的模型,其中,所述局部性能参数数据描述一性能指标的局部分量或对所述局部分量的一个或更多个局部促成因素以及与已经受所述半导体制造过程的至少一部分的至少一个衬底相关的高分辨率量测数据。使用所述第一经训练的模型,根据所述高分辨率量测数据来确定局部性能参数数据。所述第一经训练的模型能够进行操作以基于仅包括在任何这种蚀刻步骤之前所执行的量测数据的所述高分辨率量测数据来确定所述局部性能参数数据,就如同所述局部性能参数数据已在至少紧接地先前暴露的层上经受蚀刻步骤那样。
  • 监测光刻过程方法相关设备
  • [发明专利]用于结构和相关联设备的检查方法和设备-CN201980068958.5在审
  • E·巴德尔;S·夏卡瓦米拉特;G·米瑟立;A·维尔马 - ASML荷兰有限公司
  • 2019-09-25 - 2021-05-28 - G03F7/20
  • 披露一种用于从目标结构确定重叠度量的方法,包括获得与对所述目标结构的测量相关的角分辨分布光谱数据,所述角分辨分布光谱数据包括对称分量。根据所述角分辨分布光谱数据确定所述目标结构的特征的与重叠相关的轮廓,其中根据所述轮廓确定重叠度量。所述方法包括:将经曝光的特征曝光至遮蔽层上,所述遮蔽层包括限定所述层的遮蔽区域和未遮蔽区域的掩模,使得所述经曝光的特征的第一部分被曝光于所述层的遮蔽区域上且所述经曝光的特征的第二部分被曝光于所述层的未遮蔽区域上,第一部分相对于第二部分的大小是重叠相关的;和执行蚀刻步骤以限定经蚀刻的特征,所述经蚀刻的特征对应于所述经曝光的特征的第二部分。
  • 用于结构相关设备检查方法

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