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[发明专利]用于静态反应溅射的工艺气体分段-CN201480076816.0有效
发明人： A·克洛佩尔;M·哈尼卡;C·灿格尔;E·希尔 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2014-03-18 - 公布日： 2019-06-28 - 主分类号： C23C14/00 文献下载
摘要：描述一种用于材料在基板上的静态沉积的设备。所述设备包括：气体分布系统，所述气体分布系统用于提供一或多种工艺气体，其中所述气体分布系统被配置成用于针对沿基板传送方向的两个或更多个位置独立控制所述一或多种工艺气体中的至少一种工艺气体的流率；以及阴极阵列，所述阴极阵列具有三个或更多个阴极，所述三个或更多个阴极沿所述基板传送方向间隔开。
用于静态反应溅射工艺气体分段

[其他]用于测量沉积在大面积基板上的材料层的性质的装置-CN201490001491.5有效
发明人： A·克洛佩尔 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2014-06-16 - 公布日： 2018-05-11 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：描述一种用于测量沉积在大面积基板上的材料层的性质的装置。所述装置包括：控制器；基板运输布置，所述基板运输布置与控制器通信以确定基板的位置和/或速度；至少三个源的阵列，所述至少三个源的阵列被配置成用于在基板的表面上沉积第一材料层，其中至少三个源的阵列与控制器通信，其中控制器被配置成用于控制第一材料层的沉积；以及测量单元，所述测量单元被配置成与控制器通信，以便当基板由基板运输布置沿测量单元移动时，允许对基板上方的第一材料层的性质的测量；其中控制器被配置成用于使第一材料层的性质的测量与指示沿基板运输布置的基板的位置和/或速度的信号相关。
用于测量沉积大面积基板上材料性质装置