专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种自动过滤系统-CN202222144908.2有效
  • 朱亮;曹建伟;卢嘉彬;周锋;龚雯棋;王金荣;张慧阳;邱文杰;黄佳辉 - 浙江晶盛机电股份有限公司
  • 2022-08-15 - 2023-01-03 - B01D36/00
  • 本实用新型实施例提供了一种自动过滤系统,属于线切机相关技术领域,作用于线切机,过滤系统包括:抽液组件,所述抽液组件和所述线切机连通;进液组件,所述进液组件和所述线切机连通;浊液罐,所述浊液罐和所述抽液组件连通;以及清液罐,所述清液罐和所述进液组件连通;其中,所述线切机、所述抽液组件、所述进液组件、所述浊液罐以及所述清液罐构成一工作通路,从而抽液组件把线切机中的浊液抽入到浊液罐中,进液组件把清液罐中的清液送入到线切机中;达到更换切割液的工作效率高的技术效果。
  • 一种自动过滤系统
  • [发明专利]一种磁性薄膜的磁光参数表征方法及系统-CN202111162313.3有效
  • 刘世元;刘佳敏;江浩;龚雯棋 - 华中科技大学
  • 2021-09-30 - 2022-08-02 - G01N21/21
  • 本发明公开了一种磁性薄膜的磁光参数表征方法及系统,属于磁光偏振测量领域,包括:测量由基底、磁性薄膜及空气所构成的三介质系统的椭偏参数ψ、Δ和全穆勒矩阵M;利用M分别计算入射P光到反射P光和反射S光的反射系数rPP和rSP,以及入射S光到反射P光和反射S光的反射系数rPS和rSS,并利用ψ、Δ进行椭偏分析,以获得厚度d和复折射率N2;利用所计算的反射系数及椭偏分析结果计算复磁光耦合系数Q,并计算P光和S光的磁光克尔偏转角以及P光和S光的椭率角计算公式中直接保留2πdN2cosθ2/λ项。本发明在磁性薄膜厚度较大时,仍然能够准确表征其磁光参数,可适用于铁氧体磁性薄膜等厚度分布范围较大的磁性薄膜磁光参数表征。
  • 一种磁性薄膜参数表征方法系统
  • [发明专利]一种磁性椭偏测量装置-CN202110643025.3有效
  • 刘世元;刘佳敏;江浩;龚雯棋 - 华中科技大学
  • 2021-06-09 - 2022-07-05 - G01N21/21
  • 本发明属于光学测量相关技术领域,其公开了一种磁性椭偏测量装置,装置包括椭偏测量模块、磁场加载模块以及样品台,椭偏测量模块用于对样品进行光学测量,磁场加载模块包括水平磁场加载模块以及竖直磁场加载模块,其中,水平磁场加载模块包括水平移动组件、第一永久磁铁磁极对、旋转台,旋转台用于带动水平移动组件在水平面内旋转,水平移动组件用于使第一永久磁铁磁极对中的两磁铁相向或向背运动;竖直磁场加载模块包括竖直移动组件以及第二永久磁铁磁极对,竖直移动组件使得第二永久磁铁磁极对的两磁铁相对样品台相向或相背运动。本申请可以对不同磁场强度和不同模式磁场下的待测样品开展椭偏参数和穆勒矩阵测量。
  • 一种磁性测量装置
  • [发明专利]石英玻璃窗偏振效应原位校准的光学常数测量方法及装置-CN202011067230.1有效
  • 刘世元;江浩;龚雯棋;刘佳敏;谷洪刚 - 华中科技大学
  • 2020-10-05 - 2021-11-19 - G01N21/21
  • 本发明公开了石英玻璃窗偏振效应原位校准的光学常数测量方法及装置,属于偏振光学测量领域,包括:建立变温椭偏测量装置中石英玻璃窗在斜入射情况下的穆勒矩阵W和变温椭偏测量装置中高温加热腔内样品的理论穆勒矩阵MS;穆勒矩阵W中包括椭偏参数Ψ2和Δ2以及参数m13,穆勒矩阵MS中包括椭偏参数Ψ1和Δ1;根据W和MS建立变温椭偏测量装置的整体穆勒矩阵为M=WMSW,并归一化为矩阵Mn,由此得到Ψ2、Δ2、m13、Ψ1、Δ1以及Mn中各元素之间的关系;将样品加热至不同的温度,并测量各温度下的光谱穆勒矩阵,以计算各温度下Ψ1和Δ1的光谱,并反演拟合得到样品的高温光学常数。本发明能够对石英玻璃窗的偏振效应进行原位校准,保证了样品高温光学常数的测量精度。
  • 石英玻璃窗偏振效应原位校准光学常数测量方法装置

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