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专利名称

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申请人
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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]用于照射紫外线的装置-CN01124818.1有效
发明人：朴庸硕;韩占烈 -专利权人：株式会社D.M.S
申请日： 2001-06-29 - 公布日： 2004-08-18 - 主分类号： H01L21/302 文献下载
摘要：一种用于照射紫外线的装置，包括：真空室，在其一侧设置有供气部件和真空排气口；光源，设置在所述真空室的上部，用于将紫外线发射到所述基片的表面上；支持架，用于支持所述基片；和控制部件，其中在低真空状态下，所述真空室的内部压强为360-1mTorr，来自所述光源的紫外线照射到所述基片的表面上。
用于照射紫外线装置

[发明专利]用以显影液晶显示器的装置与方法-CN03119536.9无效
发明人：朴庸硕;韩占烈 -专利权人：显像制造服务股份有限公司
申请日： 2003-03-10 - 公布日： 2003-11-05 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本发明提供一种用以显影大尺寸液晶显示器装置与方法。上述装置包括一条形显影剂喷嘴以及一条形显影剂吸嘴。上述条形显影剂喷嘴被安装在离一基底一预定距离之处并且喷涂显影剂在上述基底之上。上述条形显影剂吸嘴与上述条形显影剂喷嘴的一侧保持一预定距离，并以真空状态来收集由上述显影剂喷嘴所喷涂的显影剂，且清除所喷涂的显影剂。因此，可将上述装置与方法应用至清洗工艺、剥离工艺、显影工艺以及蚀刻工艺。
用以显影液晶显示器装置方法

[发明专利]用于处理玻璃基片或晶片的注入装置-CN01124801.7无效
发明人： 韩占烈 -专利权人：株式会社D.M.S
申请日： 2001-06-29 - 公布日： 2003-01-29 - 主分类号： H01L21/302 文献下载
摘要：根据本发明的注入装置包括注入部件，用于注入汽化的IPA和溶液蒸汽；供应部件，用于再生残留的液体或提供新的液体；发生器，用于蒸发IPA和溶液。注入部件具有设置在其一端的注入孔，用于注入汽化的IPA和溶液蒸汽；和压力罐，具有形成在两侧端部的入口和出口导向件，用于使玻璃基片自由进出。供应部件具有蒸发单元和冷凝单元，用于通过泵传输压力罐出口导向件一侧残留的液体，并蒸发传输的液体。发生器具有设置在其中的加热器和供应单元，加热并提供IPA和溶液，由此将液体通过注入孔提供给玻璃基片。
用于处理玻璃晶片注入装置

[发明专利]多功能清洗模块及应用该模块的清洗设备-CN01123278.1有效
发明人：朴庸硕;韩占烈;金贞真;朴炳厚 -专利权人：株式会社D.M.S
申请日： 2001-06-29 - 公布日： 2002-04-17 - 主分类号： B08B11/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种多功能清洗模块,包括多个气帘、eximer紫外光照射装置、刷、高速喷淋装置、和空气刮刀,在此这些部件被连续的布置在一个平面上,而玻璃基片可以被连续地插入它们之中。也公开了一种应用该多功能清洗模块的清洗设备,其包括执行装载和卸载玻璃基片的驱动部以及所述多功能清洗模块。
多功能清洗模块应用设备

[发明专利]用于生产半导体装置和平板显示器的设备-CN01124802.5无效
发明人： 韩占烈 -专利权人：株式会社D.M.S
申请日： 2001-06-29 - 公布日： 2002-04-03 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：根据本发明,生产半导体装置和平板显示设备的设备结合/连接具有处理功能的模块,用于在相同类型的实体分布设备中形成半导体装置和平板显示器,处理功能如清洁－沉积－扩散－离子掺杂－再耦合－抛光－光刻－蚀刻－除灰－剥离－检查－退火,由此防止由于实体分布的重复导致生产率损失。
用于生产半导体装置平板显示器设备

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