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[发明专利]指令生成装置、指令生成方法-CN202110692602.8在审
发明人：广濑健一;铃木泰宏;丹代笃郎;横井贤士郎 -专利权人：株式会社安川电机
申请日： 2021-06-22 - 公布日： 2021-12-28 - 主分类号： H02P29/00 文献下载
摘要：指令生成装置和指令生成方法。在微小移动量的情况下也能抑制产生振动，缩短定位完成为止的时间。指令生成装置(5)具有：指令输入部(13)，输入用于控制伺服电机(11)的第1指令；第1中间数据计算部(15)，根据第1指令计算第1中间数据；延迟时间设定部(19)，根据第1指令可变地设定对第1中间数据进行平滑化处理的情况下基于第1指令的定位完成为止的时间相对于不对第1中间数据进行平滑化处理的情况下基于第1指令的定位完成为止的时间延迟的延迟时间；第2中间数据计算部(21)，根据延迟时间计算对第1中间数据进行平滑化处理而得的第2中间数据；指令输出部(23)，根据第2中间数据输出用于控制伺服电机(11)的第2指令。
指令生成装置方法

[发明专利]连续铸造方法及连续铸造装置-CN201880015434.5有效
发明人：本田裕树;森川广;铃木泰宏 -专利权人：日铁不锈钢株式会社
申请日： 2018-03-02 - 公布日： 2021-09-10 - 主分类号： B22D11/10 文献下载
摘要：本发明能够有效地抑制异物捕捉到凝固壳的现象。一种使用连续铸造装置的连续铸造方法，包括：吐出工序，从吐出孔(41A)吐出熔钢；搅拌工序，以在吐出工序中吐出的熔钢直线前进时的熔钢的到达位置(P)为模具内的熔钢的熔液面(S)，并且连接吐出孔(41A)和到达位置(P)的整个线段包含在搅拌区域的方式搅拌熔钢。
连续铸造方法装置

[发明专利]八氟环丁烷的纯化方法、其制备方法及其用途-CN02800081.1无效
发明人：堀场美奈子;铃木泰宏 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2002-01-11 - 公布日： 2004-06-09 - 主分类号： C07C17/395 文献下载
摘要：本发明的纯化八氟环丁烷的方法的特征在于使含有杂质的粗八氟环丁烷与杂质分解剂在高温下接触，然后与吸附剂接触，以便从粗八氟环丁烷中基本上除去杂质。根据本发明的纯化或制备八氟环丁烷的方法，可以基本上除去杂质例如氟碳化合物，并容易地获得高纯度的八氟环丁烷。通过本发明的纯化方法获得的八氟环丁烷基本上不含杂质，所以可用作半导体设备等的生产工艺中的蚀刻或清洁气体。
八氟环丁烷纯化方法制备及其用途

[发明专利]八氟丙烷的纯化方法、其制备方法及其用途-CN02800082.X无效
发明人：堀场美奈子;铃木泰宏 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2002-01-11 - 公布日： 2003-11-12 - 主分类号： C07C17/395 文献下载
摘要：本发明的纯化八氟丙烷的方法包括以下步骤：使含有杂质的粗八氟丙烷与杂质分解剂在高温下接触，然后与吸附剂接触，以便从粗八氟丙烷中基本上除去杂质。根据本发明的纯化或制备八氟丙烷的方法，可以基本上除去杂质例如氯化合物，并容易地获得高纯度的八氟丙烷。通过本发明的纯化方法获得的八氟丙烷基本上不含杂质，所以可用作半导体设备等的生产工艺中的蚀刻或清洁气体。
丙烷纯化方法制备及其用途

[发明专利]用于纯化全氟化碳的吸附剂、其生产方法、高纯八氟丙烷和八氟环丁烷、和其用途-CN01815573.1无效
发明人： 铃木泰宏;跡辺仁志;堀场美奈子 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2001-09-14 - 公布日： 2003-11-12 - 主分类号： B01J20/20 文献下载
摘要：为提供能够有效除去全氟化碳中所含的不纯物并获得其中不纯物含量降至1ppm(质量)或更低的全氟化碳，本发明公开了一种生产吸附剂的方法；高纯八氟丙烷或八氟环丁烷；纯化和生产该八氟丙烷或八氟环丁烷的方法；和其用途。纯化用通过包括如下步骤的方法生产的纯化吸附剂进行：(1)将原炭用酸洗涤，然后用水洗涤；(2)将原炭脱氧和/或脱水；(3)原炭在温度500－700℃下再碳化；和(4)原炭在温度700－900℃下在包含惰性气体、二氧化碳和水蒸汽的混合气体流中活化。
用于纯化氟化吸附剂生产方法高纯丙烷八氟环丁烷用途