专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果12个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]吸水性树脂粒子的制造方法-CN202180064221.3在审
  • 森田英二;长谷川真平;铃木一充 - 三洋化成工业株式会社
  • 2021-10-12 - 2023-05-30 - B01J20/26
  • 本发明提供一种吸水性树脂粒子的制造方法,其中将来自使用过的卫生用品等的吸水性树脂粒子的废弃物用作原料,有效地制造吸收特性的降低小、各种特性优异的再利用吸水性树脂粒子。本发明的吸水性树脂粒子的制造方法包括下述工序:聚合工序(I),将单体组合物进行聚合,得到包含交联聚合物(A)的含水凝胶;凝胶切碎工序(II),将上述含水凝胶切碎;干燥工序(III),将工序(II)中得到的含水凝胶粒子干燥;和粉碎分级工序(IV),对经历了工序(III)的干燥物进行粉碎、分级,该制造方法中,在上述工序(I)、上述工序(II)、上述工序(III)和上述工序(IV)中的至少1个工序中添加由卫生用品得到的吸水性树脂粒子的分解物(B),其中,上述分解物(B)的可水溶成分量为1.0~30.0重量%。
  • 吸水性树脂粒子制造方法
  • [发明专利]吸水性树脂粒子的制造方法-CN202080028719.X在审
  • 森田英二;宫岛徹;铃木一充 - 三洋化成工业株式会社
  • 2020-03-10 - 2021-11-26 - C08J3/12
  • 发明提供使用来自使用过的卫生用品等的吸水性树脂粒子的废弃物作为原料来有效地制造吸收特性的降低小、各种特性优异的再利用吸水性树脂粒子的方法。本发明涉及一种吸水性树脂粒子的制造方法,其包括下述工序:得到包含水溶性乙烯基单体(a1)的交联聚合物(A)的含水凝胶的聚合工序(I);将上述含水凝胶切碎,得到含水凝胶粒子的凝胶切碎工序(II);将由含水凝胶粒子得到的含有交联聚合物(A)的树脂粒子与表面交联剂(d)进行混合的工序(Va);以及基于表面交联剂(d)的反应工序(Vb),其中,在工序(I)、工序(II)、以及上述工序(II)后且基于表面交联剂(d)的表面交联反应工序(Vb)前的工序中的至少一个工序,添加包含水溶性乙烯基单体(a1’)的交联聚合物(A’)的吸水性树脂粒子的分解物(B)。
  • 吸水性树脂粒子制造方法
  • [发明专利]电子材料用清洗剂-CN200980149608.8有效
  • 铃木一充;佐藤祥平;杉山彩代 - 三洋化成工业株式会社
  • 2009-11-25 - 2011-11-16 - C11D10/02
  • 一种电子材料用清洗剂,该电子材料用清洗剂对细小的颗粒和有机物的清洗能力优良且可降低基板上的金属污染,并且可提高制造时的产率,能在短时间内清洗,使这种非常有效的高度清洗成为可能。本发明是一种电子材料用清洗剂,所述电子材料用清洗剂含有氨基磺酸(A)、分子内具有至少一个磺酸基或该磺酸基的盐的阴离子型表面活性剂(B)、螯合剂(C)以及水;优选25℃时pH为3以下;此外,优选(B)的重均分子量为1,000~2,000,000的高分子阴离子型表面活性剂(B1)。
  • 电子材料洗剂
  • [发明专利]电子材料用清洗剂和清洗方法-CN200880119796.5有效
  • 胜川吉隆;铃木一充;佐藤祥平 - 三洋化成工业株式会社
  • 2008-11-17 - 2010-11-17 - B08B3/08
  • 一种电子材料用清洗剂,其中,所述清洗剂含有阴离子成分由通式(1)表示的阴离子型表面活性剂(A)、碳原子数6~18的链烯、以及选自于由通式(2)表示的有机溶剂构成的组中的1种以上的有机溶剂(B),上述(B)的SP值为6~13。R1[-(OA1)a-Q-]b  (1),式(1)中,R1为碳原子数1~10的烃基,A1为碳原子数2~4的亚烷基,Q-为-COO-、-OCH2COO-、-SO3-、-OSO3-或-OPO2(OR2)-,R2为氢或碳原子数1~10的烃基,a为平均值0~20,b为1~6的整数,Q-为-COO-或-SO3-时a为0。R3[-(OA2)c-OH]d  (2),式(2)中,R3为碳原子数1~12的烃基,A2为碳原子数2~4的亚烷基,c为平均值0~20,d为1~6的整数。
  • 电子材料洗剂清洗方法
  • [发明专利]电子材料用清洁剂-CN200880106471.3在审
  • 铃木一充;杉山彩代;胜川吉隆 - 三洋化成工业株式会社
  • 2008-09-12 - 2010-09-29 - C11D17/00
  • 本发明提供一种磁光盘基板、平面显示器基板及光罩基板等电子材料用清洁剂,其可对磁光盘基板、平面显示器基板及光罩基板等电子材料基板的表面赋予适度的蚀刻性,而不会损及该些基板表面的平坦性,并且该清洁剂藉由使用界面活性剂而使自基板表面脱离的颗粒的分散性提高,而实现优异的颗粒除去性,藉此,提高制造良率以及在短时间内完成清洁率极高的高度清洁。该电子材料用清洁剂含有界面活性剂(A),上述清洁剂的特征在于:在用作清洁液时的有效成分浓度下、25℃下的pH值及氧化还原电位(V)[单位为mV,vsSHE]满足下述数式(1)。V≤-38.7×pH值+550    (1)。
  • 电子材料清洁剂
  • [发明专利]表面活性剂-CN200580029195.1有效
  • 铃木一充;山口俊一郎 - 三洋化成工业株式会社
  • 2005-08-30 - 2007-08-01 - C11D1/02
  • 本发明提供基本上不使用碱金属,在洗涤时对微细化的颗粒的再附着防止性优异、可以进行极高效率洗涤的表面活性剂。本发明使用以由中和盐(AB1)和/或中和盐(AB2)组成为特征的表面活性剂。中和盐(AB1):是具有酸解离反应的生成热变化为3~200kcal/mol的酸的酸根(X1)和碳数1~36的疏水基(Y)分别至少1个的酸性化合物(A1)与质子加合反应的生成热变化为10~152kcal/mol的含氮碱性化合物(B)的中和盐(AB1),(X1)为选自磺酸根等基团中至少1种的中和盐,中和盐(AB2):是分子内具有至少1个酸根(X2)的聚合物(A2)与质子加合反应的生成热变化为10~152kcal/mol的含氮碱性化合物(B)的中和盐(AB2)。
  • 表面活性剂
  • [发明专利]纤维处理用油剂-CN200580015659.3无效
  • 东濑行范;若原义幸;铃木一充 - 三洋化成工业株式会社
  • 2005-05-18 - 2007-04-25 - D06M15/643
  • 本发明提供一种纤维处理用油剂,将该纤维处理用油剂用于弹性纤维生产时,纤维之间的抗胶着性良好,并且在长时间内纤维处理用油剂随天数推移的稳定性良好。本发明的纤维处理用油剂是用于由高分子材料(a)形成的纤维的纤维处理用油剂,其特征在于,该(a)的片材表面在25℃的水接触角为60°以下,而将该纤维处理用油剂涂布于该(a)的片材表面后,片材表面在25℃的水接触角为70°~180°。
  • 纤维处理用油剂

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top