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[发明专利]金属氧化物膜结构物-CN201480038097.3有效
发明人：金沃律;金沃珉 -专利权人：株式公司品维斯;金沃律;金沃珉
申请日： 2014-07-11 - 公布日： 2018-04-10 - 主分类号： C23C30/00 文献下载
摘要：本发明涉及形成于基材表面的金属氧化物膜结构物，涉及由于组成金属氧化物膜的金属元素的原子个数和氧元素的原子个数呈现出非化学计量的特性，从而使金属氧化物膜的密度致密地形成为涂敷前的金属氧化物密度的90％～100％，且无裂痕及气孔的金属氧化物膜结构物，本发明提供金属氧化物膜结构物，形成于基材的表面，上述金属氧化物膜结构物的特征在于，当由XaYb标记的金属氧化物形成为金属氧化物膜结构物时，上述金属氧化物膜结构物的金属元素原子百分比大于{a/(a+b)}×100(％)，其中，X为金属元素，Y为氧元素，a为金属元素原子个数，b为氧元素原子个数，上述金属氧化物膜结构物包含纳米结晶质粒子和纳米非结晶质粒子，用于构成上述金属氧化物膜结构物的粒子不伴随基于热的生长及基于热而变为结晶质，上述金属氧化物膜结构物无裂痕及气孔。
金属氧化物膜结构

[发明专利]固相粉末涂敷装置及涂敷方法-CN201480038095.4有效
发明人：金沃律;金沃珉 -专利权人：株式公司品维斯;金沃律;金沃珉
申请日： 2014-07-10 - 公布日： 2017-09-22 - 主分类号： B05B7/14 文献下载
摘要：本发明涉及向配置于真空状态的涂敷腔体内部的基材喷射及涂敷固相粉末的装置及方法，更详细地，涉及可将吸入处于大气压状态的气体的吸入气体和由气体供给装置供给的供给气体一同用作上述固相粉末的输送气体的固相粉末涂敷装置及方法。本发明提供固相粉末涂敷装置，上述固相粉末涂敷装置的特征在于，包括输送管(10)，用于提供固相粉末(4)的输送通道；气体供给管(15)，成为从气体供给装置(20)供给的供给气体的流路；喷射喷嘴(30)，与上述输送管(10)或气体供给管(20)的末端相结合；涂敷腔体(40)，用于收容上述喷射喷嘴(30)；固相粉末供给部(未图示)，用于向上述输送管(10)供给在维持大气压状态的环境中收容的固相粉末(4)；以及压力调节装置(50)，用于调节上述涂敷腔体(40)的内部压力，借助通过驱动上述压力调节装置(50)而形成的上述涂敷腔体(40)的负压，来使处于大气压状态的气体被上述输送管(10)所吸入，从而使吸入气体(1)和供给气体(2)一同被用作固相粉末(4)的输送气体(3)，上述输送管(10)和气体供给管(15)分别使第一区间(10a、15a)、第二区间(10b、15b)及第三区间(10c、15c)依次连续形成，并且上述第一区间(10a、15a)至第三区间(10c、15c)的直径符合如下条件1)至条件3)中的一个，条件1)第一区间＝第二区间＝第三区间；条件2)第一区间≥第三区间≥第二区间；及条件3)第三区间≥第一区间≥第二区间。
粉末装置方法

[发明专利]等离子体耐蚀刻性得到提高的工艺部件及工艺部件的等离子体耐蚀刻性强化处理方法-CN201580059892.5在审
发明人：金沃律;金沃珉 -专利权人：株式公司品維斯;金沃律;金沃珉
申请日： 2015-11-04 - 公布日： 2017-08-01 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明用于解决半导体或显示器制造设备的工艺部件暴露于等离子体而被蚀刻的问题，涉及在工艺部件涂敷陶瓷粉末之前后通过除去表面(工艺部件本体的表面及涂敷膜表面)的谷和峰来提高等离子体耐蚀刻性的方法及由此等离子体耐蚀刻性得到提高的工艺部件。本发明提供等离子体耐蚀刻性得到提高的工艺部件，作为暴露于等离子体的半导体或显示器制造设备工艺部件，其特征在于，在除去部分或全部谷和峰的本体的表面形成涂敷膜，从上述涂敷膜表面除去部分或全部谷和峰。
等离子体蚀刻得到提高工艺部件强化处理方法

[发明专利]形成有氟化铝生成防止膜的化学气相沉积工艺腔部件-CN201580039534.8在审
发明人：金沃律;金沃珉 -专利权人：株式公司品維斯;金沃律;金沃珉
申请日： 2015-03-27 - 公布日： 2017-05-17 - 主分类号： C23C24/00 文献下载
摘要：本发明涉及如下的化学气相沉积(CVD；chemical vapor deposition)工艺腔部件(component)，作为位于化学气相沉积工艺腔的内部的部件，上述化学气相沉积工艺腔部件的特征在于，上述部件为由包含铝元素的材质构成的三维物体，沿着上述部件的三维表面形成有无裂痕的氟化铝(AlF3)生成防止膜，上述氟化铝生成防止膜在上述部件的表面喷涂陶瓷粉而成，上述陶瓷粉包含钇(Y，yttrium)或者由SiC、ZrO2、ZrC、TiO2、TiN、TiC、TiCN、TiCl2、HfO2中的一种以上的成分构成，上述氟化铝生成防止膜在上述部件的边角及面部不产生脱离现象。
形成氟化生成防止化学沉积工艺部件

[发明专利]静电式夹盘及其制造方法-CN201480049261.0在审
发明人：金沃律;金沃珉 -专利权人：株式公司品维斯;金沃律;金沃珉
申请日： 2014-09-04 - 公布日： 2016-04-27 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明公开了一种静电式夹盘，其特征在于，包括：基材；利用静电力吸附晶片的吸附部；将所述吸附部黏合在所述基材上的黏合层；及为了覆盖所述黏合层的露出面而形成的黏合层防侵蚀涂层。所述黏合层防侵蚀涂层是将陶瓷粉采用持续定量供入移送空气并控制于一定的流量，在0～50度的真空状态下的喷涂方式，无气泡无裂缝而形成的。本发明还公开了一种静电式夹盘的制造方法，包括：(a)利用静电力吸附晶片的吸附部黏合在基材上，形成黏合层的步骤；及(b)将陶瓷粉采用持续定量供入移送空气并控制于一定的流量，在0～50度的真空状态下的喷涂方式，覆盖所述黏合层的露出面而形成无气泡无裂缝之黏合层防侵蚀涂层的步骤。
静电式夹盘及其制造方法

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